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文檔簡介
1、本論文主要就以下三個方面進行研究:通過添加不同種類燒結助劑以及改變燒結溫度研究h-BN/Si3N4復合陶瓷的制備工藝;研究不同h-BN引入量對h-BN/Si3N4復合陶瓷的微觀組織結構和性能的影響規(guī)律;對h-BN/Si3N4復合陶瓷的連接進行初步探索。
采用冷等靜壓-無壓燒結工藝,通過添加不同種類的燒結助劑以及采用不同燒結溫度,研究h-BN/Si3N4復合陶瓷微觀組織結構和性能。結果表明,燒結助劑對其微觀組織結構和復合材料的力
2、學以及介電性能的影響均很大。添加不同燒結助劑,復合材料致密度最高可達61.8%,而最低的只有54.9%;抗彎強度最高可達146.8Mpa,最低可低至74.7MPa;對應的介電常數(shù)最高為4.36,最低降為3.70;另外,通過研究燒結溫度對材料物相轉(zhuǎn)變和致密化程度的影響結果表明:h-BN/Si3N4復合陶瓷在1800℃燒結溫度下,α-Si3N4即可完全轉(zhuǎn)化為β-Si3N4,進而優(yōu)化出h-BN/Si3N4復合陶瓷制備工藝。
采用部分
3、熱壓燒結工藝,研究h-BN引入量對h-BN/Si3N4復合陶瓷結構和性能的影響。結果表明:通過部分熱壓燒結工藝,成功避免了無壓燒結制備圓片試樣時所產(chǎn)生的徑向收縮和平面翹曲現(xiàn)象,復合陶瓷材料隨著h-BN引入量的增加,孔隙率逐漸從39.9%增加到58.8%;復合材料的力學性能呈現(xiàn)出急劇降低的趨勢,抗彎強度從159.2MPa降低到19.5 MPa;而介電性能卻得到了一定改善,介電常數(shù)從4.45降低到了2.85。材料在犧牲力學性能的基礎上實現(xiàn)了
4、介電性能的改善;同時h-BN的引入也改善了材料的抗熱震性。
對四種中間層材料的接頭界面的微觀組織結構觀察可以看出:代號為SNS和SNS(B)中間層是疏松多孔結構,中間層生成了Si2N2O相,母材和中間層由于熱失配產(chǎn)生了微裂紋;代號為MAS的中間層為一層致密的MAS相,母材和中間層結合良好,沒有發(fā)現(xiàn)微裂紋。四種中間層對應的接頭強度差異很大,最大的剪切強度達到了37.4MPa,而最低的只有9.4MPa;接頭強度在引入h-BN后急劇
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