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文檔簡介
1、新型非揮發(fā)存儲器(non-volatility memory,NVM)是一類具有非揮發(fā)特性的新介質(zhì)半導(dǎo)體存儲器,其主要代表有鐵電存儲器(Ferroelectric Random Access Memory,F(xiàn)RAM),相變存儲器(Phase Change Memory,PCM),磁阻存儲器(Magnetoresistive Random Access Memory,MRAM)和阻變存儲器(Resistive Random Access
2、Memory,RRAM)。相比于傳統(tǒng)半導(dǎo)體存儲器,新型非揮發(fā)存儲器還具有高速讀寫,低功耗和高密度存儲的特點,被認為是下一代半導(dǎo)體存儲器的發(fā)展方向。本論文以新型非揮發(fā)存儲器為研究對象,對其在電路設(shè)計層面和存儲系統(tǒng)層面的若干內(nèi)容進行了系統(tǒng)分析研究。
在電路模塊層面,針對新型非揮發(fā)存儲器的操作特點,首先對其讀寫操作電路進行了分析研究,總結(jié)歸納了讀寫操作電路在設(shè)計上的共性方法,并通過具體電路仿真分析了其工作原理,參數(shù)影響和優(yōu)勢;然后結(jié)
3、合新型非揮發(fā)存儲器特點,對其接口電路的設(shè)計做了一定研究,提出對接口電路模塊設(shè)計,時序設(shè)計,信號完整性設(shè)計等方面的改進方案。
在多值存儲技術(shù)上,在充分調(diào)研了幾種新型非揮發(fā)存儲器多值存儲原理和特點的基礎(chǔ)上,針對第二代磁阻存儲器(Spin Torque Transfer Random Access Memory,STT-RAM)多值存儲技術(shù)上的電流和功耗過載問題,提出了2T1MTJs(2 Transistors1 Magnetic
4、Tunnel Junctions)存儲單元結(jié)構(gòu),并采用45nm低功耗PTM(Predictive Technology Model)場效應(yīng)晶體管模型進行了仿真驗證,結(jié)果顯示,與傳統(tǒng)1T1MTJs結(jié)構(gòu)相比,MTJs器件中軟比特位上電流至少可減少一半,功耗至少可減少72%。
在存儲器功耗優(yōu)化方面,在充分調(diào)研了從材料,器件結(jié)構(gòu),電路設(shè)計到存儲系統(tǒng)級的功耗優(yōu)化方案基礎(chǔ)上,針對其中的編碼優(yōu)化讀出功耗方案進行了理論論證和實驗驗證,證明其可
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