Zr-Cu非晶合金薄膜的制備及其晶化過(guò)程研究.pdf_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè)，還剩61頁(yè)未讀， 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權(quán)，請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、本文采用磁控共濺射法在Si(111)單晶襯底上制備ZrxCu1-x二元非晶合金薄膜，采用X射線衍射(XRD)技術(shù)和原子力顯微(AFM)技術(shù)研究了薄膜非晶形成隨成分的變化規(guī)律，各種濺射條件對(duì)薄膜結(jié)構(gòu)的影響以及非晶合金薄膜的晶化過(guò)程，并通過(guò)納米壓痕技術(shù)對(duì)薄膜的納米硬度和彈性模量進(jìn)行了測(cè)定。 XRD分析結(jié)果顯示，在35≤x≤65成分范圍內(nèi)，隨x的增加ZrxCu1-x薄膜合金的非晶形成能力持續(xù)增強(qiáng)，表現(xiàn)出與相應(yīng)的塊體合金不同的變化規(guī)律。

2、在0.1～0.5Pa范圍內(nèi)，隨濺射氣壓的降低，薄膜易于獲得非晶結(jié)構(gòu)。襯底溫度的升高和偏置電壓的施加均不利于非晶結(jié)構(gòu)的形成。 利用XRD和AFM分別對(duì)退火態(tài)Zr65Cu35非晶合金薄膜進(jìn)行的結(jié)構(gòu)和表面形貌分析，確定其晶化溫度在300～350℃之間。研究了襯底-薄膜界面形核和薄膜表面形核兩種形核方式，其中前者可使晶粒長(zhǎng)成按一定取向排列的矩形形態(tài)。 利用納米壓痕儀表征了薄膜的力學(xué)性能，結(jié)果表明，Zr65Cu35非晶態(tài)合金薄膜具

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽，若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間，僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理，對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容，請(qǐng)與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論