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文檔簡介
1、在太陽能光熱利用中,為了能夠從太陽輻射中獲得更多的能量,多年來研究者不斷研究與開發(fā)光譜選擇性好、性能優(yōu)異的光譜選擇性吸收涂層。光譜選擇性吸收涂層的結構與材料選擇是影響涂層性能的主要因素。金屬 Mo已廣泛應用于制備傳統(tǒng)金屬-半導體串列結構的光譜選擇性系數(shù)涂層中,Mo的主要作用是做紅外反射層以及吸收層的填充金屬。
本論文中,利用磁控濺射技術在不銹鋼基底上制備了織構化的金屬Mo層,其吸收率達到0.80,發(fā)射率達到0.06。為探究單層
2、金屬 Mo的性能,對其進行了 X射線衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)以及光譜選擇性測試等表征。結合其光譜選擇性與表面粗糙度,最終選擇了最優(yōu)的單層金屬Mo厚度。在此基礎上,為提高吸收涂層的光譜選擇性,在其表面利用磁控濺射技術制備了Al2O3減反射層。經(jīng)優(yōu)化設計,最終涂層的吸收率達0.90,發(fā)射率為0.08。
光譜選擇性吸收涂層的熱穩(wěn)定性直接決定了其使用壽命,本論文考察了SS/Mo/Al2O3涂層在
3、空氣和真空環(huán)境下的熱穩(wěn)定性。利用X射線衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)、拉曼光譜儀(Raman)等表征手段對涂層退火前后表面形貌、顯微結構、化學組成分布、涂層之間的遷移其光學性質進行分析。研究結果表明,SS/Mo/Al2O3涂層在空氣中350 oC和真空600 oC下性能穩(wěn)定,涂層的光學性能未發(fā)生較大改變(吸收率為0.87~0.90,發(fā)射率達0.06~0.08),同時涂層表面形貌及內部結構無明顯變化。表明
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