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文檔簡介
1、 本論文研究的主要內(nèi)容就是采用CO2反應法在氫化鋯表面建立氫滲透阻擋層(防氫滲透層)，該方法可歸為化學氣相沉積(CVD)這一類。通過加熱氫化鋯、高純二氧化碳和磷，在設定的工藝參數(shù)下，通過反應氣體在氫化鋯表面吸附、離解，然后通過元素擴散和反應生成致密的膜層。本論文還對CO2反應法得到的氫滲透阻擋層的防氫滲透機理做了深入分析，通過XPS分析表明在700℃加熱保溫數(shù)小時后，膜層中重新生成了一部分新的C-H鍵、O-H基團(可能O-H又和鋯形成
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