激光干涉納米制造中的尺寸檢測及質(zhì)量評估.pdf

1、激光干涉納米光刻是產(chǎn)生周期性、納米級圖案的有效技術(shù)之一，該技術(shù)具有無掩模、長焦深、高分辨率、成本低、容易實(shí)現(xiàn)大面積等優(yōu)點(diǎn)。然而，由于在激光干涉納米光刻產(chǎn)生圖案的過程中存在諸多干擾因素，如溫度的變化、濕度的變化、灰塵、噪聲等，使得部分干涉圖案發(fā)生變形或出現(xiàn)缺陷，因此，需要我們對干涉圖案進(jìn)行質(zhì)量檢測和評估。
　　本文討論了激光干涉圖案的參數(shù)檢測和質(zhì)量評估的方法。首先，介紹相關(guān)檢測原理，并運(yùn)用該方法測量兩光束激光干涉的計(jì)算機(jī)仿真圖和激光

2、干涉系統(tǒng)產(chǎn)生的CCD模擬圖，其中計(jì)算機(jī)仿真圖包括理想傾斜條紋圖和加噪聲的傾斜條紋圖。測量結(jié)果證明，對于激光干涉條紋圖，該方法是一種有效的測量方法并且具有較高的抗噪聲性能。然后，介紹了霍夫擬合(Hough fitting)和最小二乘擬合(the least squares fitting)的原理，并使用這兩種方法測量兩光束激光干涉的計(jì)算機(jī)仿真圖和由AFM掃描得到的實(shí)際光刻圖案，詳細(xì)論述了基于霍夫擬合和最小二乘擬合兩種檢測方法的實(shí)現(xiàn)過程，并