納米級(jí)金屬薄膜厚度的SPR檢測(cè)方法研究.pdf

1、納米級(jí)金屬薄膜材料具有特殊的性能，在現(xiàn)代科技如微納光電子器件有著重要應(yīng)用。該薄膜的特殊性能與其厚度密切相關(guān)，因此需要高精度測(cè)量厚度參量。目前能夠高精度測(cè)量納米級(jí)金屬薄膜的儀器主要是掃描探針顯微鏡(SPM)，橢網(wǎng)偏振光檢測(cè)儀以及臺(tái)階輪廓儀等等。但是由于價(jià)格昂貴和結(jié)構(gòu)復(fù)雜，限制了它們更廣泛地應(yīng)用。
　　 為了解決上述問(wèn)題，研究設(shè)計(jì)了一種基于表而等離子體波共振(SPR)效應(yīng)的馬赫-增德?tīng)?Math-Zehnder)干涉相位檢測(cè)方法并搭

2、建了實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)。通過(guò)檢測(cè)薄膜厚度變化引起的干涉條紋變化實(shí)現(xiàn)對(duì)金屬薄膜厚度的測(cè)量。這種方法可以用于30nm到100nm之間的金屬薄膜厚度測(cè)量。其靈敏度高，結(jié)構(gòu)更為簡(jiǎn)單，測(cè)量精度為1nm。
　　 論文研究的主要內(nèi)容和創(chuàng)新點(diǎn)有：
　　 1.p偏光為測(cè)量光，s偏光為參考光，建立了薄膜厚度參數(shù)與兩種偏振光相位之間的數(shù)學(xué)關(guān)系并進(jìn)行了理論模擬計(jì)算。
　　 2.根據(jù)表面等離子體波和激光干涉特點(diǎn)，搭建Math-Zehnder干涉結(jié)構(gòu)