反應(yīng)離子刻蝕碲化鋅晶體光學(xué)性質(zhì)與應(yīng)用研究.pdf

1、本文首先介紹了半導(dǎo)體中的基本光學(xué)過程，著重分析了能帶帶間包括帶尾之間的躍遷、晶格振動和喇曼（Raman）散射特性，簡介了研究樣品的測量儀器真空紫外光譜儀和傅立葉變換光譜儀。然后給出了相關(guān)的理論模型，包括三層薄膜透射和反射、晶格振動區(qū)域以及吸收邊以上基本吸收區(qū)域的折射率模型。最后，重點介紹了我所研究的反應(yīng)離子刻蝕（RIE）碲化鋅（ZnTe）晶體從紫外到紅外波段的光學(xué)性質(zhì)和應(yīng)用，這些工作都是從測量RIE ZnTe晶體各種類型的光譜開始的。

2、通過研究RIE ZnTe晶體的遠紅外（FIR）反射譜，我們得到了RIE ZnTe晶體損傷層平均厚度，介紹了刻蝕中缺陷的引入機制，估算了缺陷濃度，并分析了改變刻蝕條件特別是射頻功率對晶體造成的影響。在此基礎(chǔ)上，我們計算了RIE ZnTe晶體在太赫茲（THz）頻段的表面層有效折射率，并利用兩套經(jīng)驗公式總結(jié)出了折射率與射頻功率之間的關(guān)系。此外，我們利用臨界點（CPs）模型擬合了RIE ZnTe晶體紫外反射光譜，詳細分析了ZnTe晶體吸收邊