計(jì)算機(jī)控制的反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)及刻蝕研究.pdf

1、該文闡述了微系統(tǒng)的發(fā)展過(guò)程,敘述了二元光學(xué)的研究現(xiàn)狀和二元光學(xué)的成形過(guò)程,比較了幾種不同的刻蝕方法.并且詳細(xì)論述離子刻蝕的原理以及離子源的參數(shù)設(shè)計(jì).從設(shè)計(jì)者的角度詳細(xì)說(shuō)明了用計(jì)算機(jī)控制反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的硬件系統(tǒng)、接口設(shè)計(jì)和軟件.并且設(shè)計(jì)了用單片機(jī)的脈沖調(diào)制技術(shù)實(shí)現(xiàn)了多路D/A轉(zhuǎn)換.反應(yīng)離子束刻蝕是二元光學(xué)器件面形轉(zhuǎn)移的主要方法.該文介紹了反應(yīng)離子束刻蝕的原理并研究了離子源設(shè)計(jì)的一些經(jīng)驗(yàn)參數(shù)和各種刻蝕參數(shù)對(duì)二元光學(xué)器件成形過(guò)程的影響,以及不

2、同材料二元光學(xué)器件的刻蝕速率.該文詳細(xì)討論了計(jì)算機(jī)控制的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)各個(gè)部分的硬件接口電路和設(shè)計(jì)思想.并重點(diǎn)介紹了用單片機(jī)實(shí)現(xiàn)數(shù)、模轉(zhuǎn)換的基本思想以及電路設(shè)計(jì)和參數(shù)選擇.軟件分為上位機(jī)軟件和下位機(jī)軟件兩種,上位機(jī)軟件是用C++語(yǔ)言編寫(xiě)的,通過(guò)一個(gè)定時(shí)程序使各個(gè)控制命令按一定的時(shí)序順序的執(zhí)行,并不斷的檢測(cè)是否有錯(cuò)誤出現(xiàn)需要報(bào)警.下位機(jī)軟件是用匯編語(yǔ)言編寫(xiě)的,使用了定時(shí)器中斷和外部中斷作為輸出和輸入.該文在附錄中還詳細(xì)介紹了硬件部分的端口