超薄硅片的制備、力學(xué)特性及應(yīng)用研究.pdf

1、隨著科技日新月異的發(fā)展，對降低器件的功耗，減小器件體積和提高器件集成度的呼聲也越來越高。正是在這樣的背景下，硅片減薄技術(shù)發(fā)展越來越來快，帶來超薄硅片的應(yīng)用也越來越廣泛，其中一個應(yīng)用就是用于提高由于大氣湍流帶來光學(xué)成像質(zhì)量下降。目前對光學(xué)成像設(shè)備的分辨率及圖像質(zhì)量的要求越來越高，尤其是高分辨率長焦距的空間偵查相機研究在各國的軍事領(lǐng)域中備受重視。而在這一切的研究中，自適應(yīng)光學(xué)成像技術(shù)始終扮演著重要的角色。自適應(yīng)光學(xué)成像技術(shù)是指在計算機實時控

2、制下，通過改變主透鏡表面的曲率來補償大氣變化及溫度變化所引起的成像畸變。自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)的基本結(jié)構(gòu)由波前傳感器、變形鏡和波前控制器三部分組成。其中最主要的部分是變形鏡的，它的表面質(zhì)量、體積、尺寸、功耗、響應(yīng)時間等直接決定了該自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)的性能。
　　 本論文首先從超薄硅片的制備的重要性和可行性出發(fā)，再探究硅片厚度減薄帶來的硅片力學(xué)性質(zhì)變化，并以此為基礎(chǔ)，將所得研究結(jié)論應(yīng)用于實際問題——變形鏡的制作。通過對國內(nèi)外對變形鏡的研究現(xiàn)狀

3、及所遇到問題的探討，針對各種問題進行分析并探討解決方案，確定以連續(xù)面的靜電驅(qū)動變形鏡為模型。再從平行板電容器、薄板理論、超薄硅片力學(xué)特性出發(fā)，依次對結(jié)構(gòu)設(shè)計、靜態(tài)變形、動態(tài)響應(yīng)及極限失效特性進行深入分析，討論鏡面大小、厚度，電極數(shù)量、電極大小等相關(guān)結(jié)構(gòu)參數(shù)對變形鏡相關(guān)性能影響。尋找一種結(jié)構(gòu)簡單、制造方便、實時控制的微反射鏡。通過上面理論及數(shù)據(jù)仿真，確定了最佳變形反射鏡的相關(guān)結(jié)構(gòu)參數(shù)，并分別設(shè)計并成功制作出有效反射面積為30×30mm2，