光磁混合存儲(chǔ)超分辨近場(chǎng)結(jié)構(gòu)溫度場(chǎng)分布模擬.pdf

1、由于存在超順磁效應(yīng)及光學(xué)衍射極限等問題，磁存儲(chǔ)和光存儲(chǔ)密度的進(jìn)一步提高均受到了限制。為了獲得更高的記錄密度，逐步形成了將磁存儲(chǔ)、光存儲(chǔ)和磁光存儲(chǔ)相結(jié)合的光磁混合存儲(chǔ)。該技術(shù)采用高矯頑力的磁記錄材料，利用介質(zhì)矯頑力隨溫度的升高而減小的特性，通過激光加熱的方法來降低矯頑力進(jìn)行信息寫入。其中，激光加熱過程可采用近場(chǎng)光存儲(chǔ)方案來實(shí)現(xiàn)。
　　 可供選擇的近場(chǎng)光存儲(chǔ)方案中以超分辨近場(chǎng)結(jié)構(gòu)（Super-RENS）最佳。這種方案利用掩膜層在激光

2、照射下發(fā)生非線性光學(xué)效應(yīng)而產(chǎn)生納米孔徑，克服了傳統(tǒng)的探針型近場(chǎng)存儲(chǔ)方案中探針容易損毀，且探針與盤片近場(chǎng)距離難以控制的缺點(diǎn)。在此方案中，掩膜層起著至關(guān)重要的作用。
　　 針對(duì)超分辨近場(chǎng)結(jié)構(gòu)具有的多層膜系，利用光學(xué)特性導(dǎo)納矩陣建立了膜系的光傳導(dǎo)模型，并運(yùn)用遺傳算法對(duì)膜系進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)。采用有限元分析軟件FEMLAB對(duì)不同激光功率和脈寬下掩膜層的孔徑形成情況以及光傳導(dǎo)等問題進(jìn)行了數(shù)值仿真，并對(duì)磁性存儲(chǔ)介質(zhì)FePt的溫度場(chǎng)分布進(jìn)行了模擬，