一種場致發(fā)射陰極工藝的研制.pdf

1、場致發(fā)射陰極是制備新型壓力傳感器和顯示器件的核心部位，由于其廣闊的應(yīng)用前景備受關(guān)注。本學(xué)位論文圍繞場致發(fā)射陰極的特性和機理開展了一系列理論與實驗工作，全文主要研究工作如下：1.總結(jié)了國內(nèi)外場致發(fā)射陰極制備的歷史現(xiàn)狀和各種工藝特點，通過分析各種制備方法的特點，確立了激光微加工和濕法腐蝕兩種工藝方法。 2.研究了場致發(fā)射的相關(guān)基礎(chǔ)理論，從理論上分析了兩種工藝特點的意義，并研究討論了半導(dǎo)體場致發(fā)射電流與半導(dǎo)體功函數(shù)和溫度的關(guān)系，為微錐

2、場致發(fā)射材料的選擇指明的方向。 3.仔細(xì)研究了激光微加工的工藝流程和特點，并設(shè)計了相應(yīng)實驗以測定該工藝可能達(dá)到的結(jié)果，發(fā)現(xiàn)該工藝還存在很大缺點：能達(dá)到的工藝精度很難滿足我們的實際要求。 4.相對于激光微加工工藝，濕法腐蝕法能夠在硅表面刻蝕出內(nèi)表面光滑的形狀一致的錐體，且具有很好的可控性，實驗結(jié)果證明：采用該工藝能夠獲得較好質(zhì)量的聚合物微錐陣列，非常適合于場致發(fā)射陰極的制備。 總之，提出了一種聚合物微錐制備工藝方法