Yb：Er共摻Al-,2-O-,3-光波導放大器制備工藝及非均勻摻鉺光波導理論設(shè)計.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、分別利用中頻磁控濺射(MFS)方法和微波電子回旋共振(ECR-MW)等離子體方法制備了Yb:Er共摻Al<,2>O<,3>薄膜,研究了氧氣與氬氣比例、樣品熒光譜強度、最佳Yb:Er比例、最佳退火溫度、樣品表面形貌等性質(zhì).利用等離子體干刻的方法對制備的薄膜進行了刻蝕,形成了脊型波導.基于MFS方法刻蝕的波導脊寬4 μm,脊高1.0-1.2 μm.基于ECR-MW方法刻蝕的波導脊寬4μm,脊高0.4-0.6μm.用自行設(shè)計的波導增益測量系統(tǒng)

2、對波導放大器進行了測量.提出了縱向非均勻摻雜光波導放大器的概念.建立了一套包括了鉺離子的個6能級和鐿離子的2能級,考慮了合作上轉(zhuǎn)換、交叉弛豫、激發(fā)態(tài)吸收等非線性效應的速率方程,并利用自適應方法分別就摻Er和Yb:Er共摻光波導放大器求解了兩種縱向濃度分布,分別得到了2.25﹪和7.26﹪的增益改善.利用激光退火方法對摻Er:Al<,2>O<,3>薄膜進行了處理,并改善了退火工藝.提出了利用激光退火工藝制備非均勻Er摻雜的方法.實驗中獲得

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