TiO-,2-單層膜及TiO-,2--SnO-,2-：F復(fù)合膜的DBD-CVD制備及性能研究.pdf

1、本論文介紹了TiO2薄膜光催化和親水性的研究背景及其原理，比較了各種TiO2薄膜的制備技術(shù)和方法，并對(duì)其光催化和親水性的影響因素進(jìn)行了總結(jié)。提出以介質(zhì)阻擋放電化學(xué)氣相沉積法(DBD-CVD)制備TiO2單層薄膜和TiO2/SnO2：F復(fù)合薄膜的實(shí)驗(yàn)?zāi)繕?biāo)。 以TTIP(四異丙醇鈦)為先驅(qū)體，采用介質(zhì)阻擋放電化學(xué)氣相沉積法(DBD-CVD)，在普通玻片上制備得到具有一定光催化性和親水性的TiO2單層薄膜，并且以此為基礎(chǔ)，初步在Low

2、-E玻璃(SnO2：F薄膜)上鍍TiO2薄膜，在一定程度上實(shí)現(xiàn)了低輻射和自清潔功能的復(fù)合。 文章系統(tǒng)研究了沉積溫度、沉積電壓等工藝參數(shù)對(duì)普通玻片上沉積的TiO2單層薄膜的形貌結(jié)構(gòu)、透過率、光催化和親水性能的影響。DBD-CVD法在較低的沉積溫度下制備出的TiO2薄膜是非晶態(tài)的，光催化效率比較低，親水性比較差。隨著沉積溫度的升高，出現(xiàn)銳鈦礦相，薄膜表面開始變得比較均勻平整致密，光催化和親水性能逐漸提高。沉積電壓比較低時(shí)，薄膜是非晶

3、態(tài)，表面粗糙度比較大，光催化和親水性都比較差。隨著沉積電壓的增大，薄膜的厚度增加，薄膜表面開始變得比較均勻平整致密，粗糙度變小，結(jié)晶性能提高，吸收邊有紅移趨勢，親水性也隨之改善，但光催化性能在100V時(shí)最好。 在Low-E玻璃上制備的反應(yīng)時(shí)間系列的TiO2/SnO2：F的復(fù)合薄膜，當(dāng)反應(yīng)時(shí)間比較短時(shí)，薄膜中的TiO2處于非晶狀態(tài)，當(dāng)反應(yīng)時(shí)間為1h時(shí)，薄膜表面開始變得相對(duì)致密，出現(xiàn)TiO2的銳鈦礦相。當(dāng)反應(yīng)時(shí)間達(dá)到2h時(shí)，薄膜中出