版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、如今,脈沖行波管在Ku和Ka波段向小型化和微波功率模塊發(fā)展。這就需要非常精確的蔭影柵和控制柵來制造小型的網(wǎng)格型柵控電子槍。我們傳統(tǒng)的方法為球冠成型后用電火花方法加工。但是,由于Ku和Ka波段的柵網(wǎng)尺寸較小,電火花電極難以加工且柵網(wǎng)輪輻的邊緣毛刺較大從而導(dǎo)致電子槍部位的高壓打火。因此,我們選用光刻的工藝加工蔭影柵和控制柵。
在經(jīng)過仔細(xì)的研究之后,我們結(jié)合半導(dǎo)體的基本工藝過程以及柵網(wǎng)的實(shí)際結(jié)構(gòu),尋找特殊點(diǎn)并鑒別不同處,我們克服
2、了種種困難,最終微電子的光刻工藝成功運(yùn)用到我們的柵網(wǎng)加工中。我們制造出了小型的蔭影柵和控制柵,其尺寸和形狀滿足設(shè)計(jì)需求。與國外同類的柵網(wǎng)進(jìn)行了比較,并最終裝入電子槍,測量了電子槍靜態(tài)的注流通率。試驗(yàn)表明電火花柵網(wǎng)的注流通率只有80%,而光刻加工的柵網(wǎng)的注流通率達(dá)到90%以上。由此可見我們制造小型柵網(wǎng)的方法是有效的,且可以應(yīng)用于柵控電子槍。
通過課題研究,成功解決了小型柵網(wǎng)的加工難題。光刻加工的柵網(wǎng)優(yōu)于電火花加工的柵網(wǎng)。尤其
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 鉬柵網(wǎng)微細(xì)光刻電解加工試驗(yàn)研究.pdf
- 基于疊柵條紋的納米光刻對準(zhǔn)理論與應(yīng)用研究.pdf
- 起落柵氧MOS器件柵泄漏電流研究.pdf
- x射線光刻制作0.1微米級phemtt型柵
- 1.0微米先進(jìn)鋁柵工藝開發(fā)
- 一種亞納米級柵距變化量的變柵距光柵分度控制方法的研究.pdf
- 浮動(dòng)?xùn)艑捙c柵壓Buck變換器研究與設(shè)計(jì).pdf
- 高k柵GaAs和InAlAs MOS電容柵漏電流特性研究.pdf
- 柵氧化工藝在線監(jiān)控技術(shù)的優(yōu)化.pdf
- 葉尖小翼控制渦輪葉柵間隙流動(dòng)的研究.pdf
- 0.12微米疊柵分柵混合結(jié)構(gòu)快閃存儲器浮柵電壓耦合特性研究
- 后加載葉柵氣動(dòng)特性的環(huán)形葉柵實(shí)驗(yàn)研究與數(shù)值模擬.pdf
- 低壓渦輪葉柵流動(dòng)分離控制及其機(jī)理研究.pdf
- 柱柵智能儀表的研究.pdf
- 槽柵倒摻雜MOSFET的研究.pdf
- 球柵陣列封裝無鉛植球工藝研究.pdf
- TiN基金屬柵特性研究.pdf
- 防護(hù)欄、柵
- 高k柵介質(zhì)MOS器件模型和制備工藝研究.pdf
- 高頻雙柵MOSFET器件的研究.pdf
評論
0/150
提交評論