一種亞納米級(jí)柵距變化量的變柵距光柵分度控制方法的研究.pdf

1、變柵距光柵具有像差校正、自聚焦等優(yōu)點(diǎn)，在天文物理學(xué)、同步輻射、光纖通信等領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用，因此，變柵距光柵的刻劃技術(shù)一直是國際光柵制作領(lǐng)域的重大課題之一。變柵距光柵要求的柵距變化量為納米、亞納米數(shù)量級(jí)，這成為變柵距光柵制作的一個(gè)主要的技術(shù)難點(diǎn)。針對(duì)于此，美國、日本和俄羅斯等極少數(shù)國家為光柵刻劃機(jī)設(shè)計(jì)了十分復(fù)雜的分度控制系統(tǒng)，雖然刻劃出了具有實(shí)用性的變柵距光柵，但其復(fù)雜、昂貴的設(shè)備不適合我國光柵加工的具體情況。由于變柵距光柵要求的最小柵

2、距變化量為納米至亞納米級(jí)，僅靠提高刻劃機(jī)的分度精度已很難實(shí)現(xiàn)，鑒于此，根據(jù)現(xiàn)有的光柵制作的具體情況，本文首次提出了一種相位掃描方法用于光柵刻劃機(jī)的變柵距分度控制，即通過對(duì)光柵刻劃機(jī)分度系統(tǒng)的干涉條紋采用微位移掃描方式進(jìn)行相位控制，達(dá)到變柵距光柵分度的目的。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，本文捉出的相位掃描方法原理正確，具有創(chuàng)新性，達(dá)到了變柵距光柵所要求的亞納米級(jí)的柵距變化精度。由于該方法只需在現(xiàn)有的光電式光柵刻劃機(jī)上附加相位掃描裝置，因而系統(tǒng)的整體可靠性