利用激光直寫制作灰度掩模技術(shù)研究.pdf

1、在當(dāng)前的某些應(yīng)用領(lǐng)域,必須使用小型、高效、陣列化的衍射光學(xué)元件.但是衍射光學(xué)元件目前使用的加工方法如:機(jī)械加工方法、二元光學(xué)方法和直寫方法都有其各自缺點(diǎn).上世紀(jì)九十年代中期逐漸發(fā)展起來(lái)的灰度掩模技術(shù)加工衍射光學(xué)元件,與上述方法相比有很多優(yōu)點(diǎn),是一種有發(fā)展前景的衍射光學(xué)元件制作技術(shù).在元件尺寸遠(yuǎn)大于波長(zhǎng)量級(jí)時(shí),用標(biāo)量衍射理論分析元件是有效的.本文根據(jù)標(biāo)量衍射理論,圍繞衍射效率對(duì)利用灰度掩模方法制作衍射光學(xué)元件進(jìn)行了研究.內(nèi)容如下:1、根據(jù)

2、本實(shí)驗(yàn)室直寫設(shè)備的實(shí)際參數(shù),完成了菲涅耳透鏡的設(shè)計(jì)工作.2、用計(jì)算機(jī)模擬,討論了當(dāng)綜合考慮寫入效率和制作元件的性能時(shí)寫入步長(zhǎng)的選擇問題.3、用計(jì)算機(jī)模擬了制作菲涅耳透鏡時(shí)灰度掩模的曝光量分布和菲涅耳透鏡的面形結(jié)構(gòu).4、詳細(xì)分析了菲涅耳透鏡制作時(shí)產(chǎn)生的刻蝕深度誤差對(duì)衍射效率的影響.5、建立了兩種菲涅耳透鏡線寬誤差模型,分別推導(dǎo)了兩類線寬誤差與衍射效率的函數(shù)關(guān)系,分析了各自對(duì)衍射效率的影響.6、用Q因子方法簡(jiǎn)單估算了側(cè)壁傾斜誤差對(duì)衍射效率的