周期結(jié)構(gòu)材料中的衍射電磁波的場模擬算法研究.pdf

1、微電子技術(shù)領(lǐng)域，包括大規(guī)模集成電路，光子晶體材料及器件的發(fā)展使其關(guān)鍵技術(shù)尺寸開始進(jìn)入納米技術(shù)領(lǐng)域。由于現(xiàn)在微電子半導(dǎo)體芯片的集成度很高，而且?guī)缀醺鞣N復(fù)雜的微加工形狀均是周期性結(jié)構(gòu)，因此對其關(guān)鍵尺寸及材料折射率等進(jìn)行相關(guān)測試的計量技術(shù)就顯得至關(guān)重要。本論文就針對周期性結(jié)構(gòu)的計量技術(shù)作了詳盡的介紹，并且闡述了光譜衍射理論對計量技術(shù)的重要性。
　　本文詳盡的介紹推導(dǎo)了周期結(jié)構(gòu)幾種常見的場模擬算法，其中重點(diǎn)研究了標(biāo)量衍射理論，嚴(yán)格耦合波理

2、論及Waterman方法。通過幾種算法在理論中和相應(yīng)仿真結(jié)果的對比來對其進(jìn)行分析討論，通過理論推導(dǎo)，總結(jié)出Waterman算法計算的限制性條件，并且將適應(yīng)性正規(guī)化與消減截斷誤差相結(jié)合對Waterman算法進(jìn)行適當(dāng)改進(jìn)。得出Waterman作為主要算法RCWA的一種補(bǔ)充這一結(jié)論，通過多個實例來對比改良前后的仿真結(jié)果，得到在某些情況下Waterman方法可以彌補(bǔ)RCWA的某些不足，對其起到補(bǔ)充作用這一結(jié)論，改進(jìn)后的方法能夠準(zhǔn)確模擬刻蝕深度更