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1、THz技術(shù)發(fā)展的關(guān)鍵是尋找綜合性能優(yōu)良的輻射源材料,材料的性質(zhì)決定了輻射信號(hào)的質(zhì)量好壞。本論文旨在研究制備不同結(jié)構(gòu)類型的生色團(tuán)及電光高分子材料,從而為進(jìn)一步研究其THz輻射性能,建立結(jié)構(gòu)同性能的關(guān)系打下基礎(chǔ)。
本論文第一章在簡(jiǎn)要介紹THz技術(shù)的基礎(chǔ)上,較系統(tǒng)地闡述了高分子電光材料作為太赫茲輻射源,相對(duì)于傳統(tǒng)晶體材料的諸多優(yōu)勢(shì),如電光系數(shù)高、相干長(zhǎng)度大、無(wú)聲子吸收帶隙、設(shè)計(jì)靈活多樣等,能獲得響應(yīng)強(qiáng)、頻帶寬、平坦連續(xù)的THz譜圖;
2、較細(xì)致地分析了影響譜圖的各種因素,并對(duì)近年來(lái)國(guó)內(nèi)外相關(guān)領(lǐng)域的研究工作做了比較全面的綜述,實(shí)踐證明高分子電光材料是一類極具研究和應(yīng)用價(jià)值的太赫茲輻射源材料。設(shè)計(jì)合成具有高電光系數(shù)的生色團(tuán)分子是制備高分子電光材料的基礎(chǔ)。
第二章用簡(jiǎn)便方法合成了含有三個(gè)氰基的強(qiáng)電子受體2-二氰基甲基-3-氰基-4,5,5-三甲基-2,5-二氫呋喃(TCF);通過(guò)改變吸電子基團(tuán)(-NO2和TCF)、改變共軛鏈長(zhǎng)度(構(gòu)建包括-N=N-雙鍵和-CH=CH
3、-雙鍵在內(nèi)的復(fù)合p電子共軛橋的新型推拉型共軛體系)、改變共軛橋類型(苯環(huán)和噻吩環(huán))等因素合成了四種含有活性-OH的非線性生色團(tuán)分子NLO-1、NLO-2、NLO-3、NLO-4,對(duì)其結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征。
針對(duì)目前太赫茲輻射源材料局限于摻雜體系的現(xiàn)狀,論文第三章將合成的生色團(tuán)掛接到不同的聚合物主鏈上,制備了一系列新型聚氨酯酰亞胺類、聚氨酯類、環(huán)氧樹脂類側(cè)鏈型電光聚合物體系。通過(guò)改變NLO-1和TDI的含量,利用兩步法合成了一系列側(cè)鏈
4、型聚氨酯酰亞胺PUI;將NLO-2、NLO-3生色團(tuán)掛接到側(cè)鏈,合成了側(cè)鏈型聚氨酯電光聚合物體系;將TCF與前體聚合物BP-ABA側(cè)鏈上的醛基通過(guò)Knoevenagel縮合反應(yīng)得到相應(yīng)的側(cè)鏈型電光聚合物BP-ABA-TCF;將非晶聚碳酸酯APC與相應(yīng)生色團(tuán)組成摻雜體系。
第四章利用旋涂法制備了不同體系的聚合物體系薄膜。對(duì)溶劑、溶液濃度、旋涂轉(zhuǎn)速和時(shí)間等影響薄膜的制備因素進(jìn)行了研究。采用電暈極化法,用自制的極化裝置使薄膜中的生色
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