壁畫線描畫的生成框架及臨摹工具的研究及開發(fā)_5968.pdf

1、線描畫是繪畫中重要的藝術(shù)語言形式,其作為敦煌壁畫中的“起稿”,在敦煌壁畫研究領(lǐng)域中更是占有著舉足輕重的地位。對(duì)敦煌壁畫線描畫的臨摹工作早已開始,但臨摹過程中卻存在著壁畫規(guī)模過大、內(nèi)容過多;表現(xiàn)形式多樣;顏色和線條脫落;壁畫遺址禁止臨摹等眾多的難點(diǎn)和問題。
　　隨著當(dāng)前信息技術(shù)的快速發(fā)展,應(yīng)用計(jì)算機(jī)技術(shù)和圖像處理技術(shù)依據(jù)提供的壁畫照片,自動(dòng)生成壁畫線描畫有著重要的意義,此舉既得到了壁畫的線描也保護(hù)了文化遺產(chǎn)不受損害,同時(shí)還為繪畫者、

2、游客們提供了欣賞線描的機(jī)會(huì)。此外,為彌補(bǔ)學(xué)者和繪畫者未能身臨其境臨摹的遺憾,設(shè)計(jì)一款實(shí)用性高又有展覽價(jià)值的臨摹敦煌壁畫線描的臨摹工具,既能幫助學(xué)者觀賞并臨摹線描畫,同時(shí)也為繪畫者提供高科技的繪畫工具。
　　本文基于上述內(nèi)容,繼續(xù)研究并提出了優(yōu)化的敦煌壁畫線描畫框架,主要包括:主要內(nèi)容分離、層次化結(jié)構(gòu)分割、整體線條提取、缺失內(nèi)容補(bǔ)充及矢量化優(yōu)化。細(xì)化后的框架更便于從原始圖像中分離背景獲取更滿意的線描畫。同時(shí),增加了對(duì)線描畫全景圖的拼

3、接技術(shù)的研究與實(shí)現(xiàn)。此外,依據(jù)線描畫生成框架提供的思路,設(shè)計(jì)壁畫線描畫臨摹技術(shù)路線,分別從自由臨摹模式和指導(dǎo)臨摹模式設(shè)計(jì)臨摹工具的開發(fā)過程。在實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)的繪畫功能外,在自由模式開發(fā)中增加提取線條及矢量化邊界功能,在指導(dǎo)模式開發(fā)中添加主要內(nèi)容摳出分割、提取線條、矢量化邊界、用戶選取線條等功能,用戶可在指導(dǎo)步驟下,完成臨摹過程。
　　本文中優(yōu)化的線描生成框架已成功實(shí)現(xiàn)較為滿意的線描畫的提取工作,也為未來其他線描提取的研究提供了依據(jù)和思路