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文檔簡介
1、隨著現(xiàn)代制造技術(shù)精度的不斷提高,發(fā)展納米測量技術(shù),建立納米計(jì)量測試標(biāo)準(zhǔn)成為計(jì)量與測試技術(shù)中十分重要的課題.納米測量技術(shù)是隨著納米及微米技術(shù)的發(fā)展而誕生的一門新興學(xué)科,無論在精細(xì)機(jī)械加工與微型機(jī)電系統(tǒng),還是在物理精密測量領(lǐng)域上,納米測量技術(shù)都有著廣泛的應(yīng)用. 現(xiàn)在能夠?qū)崿F(xiàn)納米測量的方法主要有:電感電容測微儀、x射線干涉儀、外差式激光干涉儀、計(jì)量型掃描探針顯微鏡。本論文重點(diǎn)探討了在納米測量技術(shù)領(lǐng)域目前常用的雙頻激光外差干涉儀: (1)
2、在選題階段掌握和理解了各種激光外差干涉儀的光路結(jié)構(gòu)和應(yīng)用范圍。提出了采用聲光頻移器的全光纖外差測距方法。 (2)完成了干涉儀系統(tǒng)的光學(xué)參數(shù)設(shè)計(jì),包括激光器功率,偏振度,線寬要求,同光路的設(shè)計(jì)原因和理論推導(dǎo),并進(jìn)行了干涉儀的光路調(diào)整和測量實(shí)驗(yàn); (3)設(shè)計(jì)了基于PCI-6221數(shù)據(jù)采集卡的,采用定時(shí)采集的函數(shù),以vc作為語言的界面設(shè)計(jì)初步模型; (4)對設(shè)計(jì)的各項(xiàng)光學(xué)參數(shù)(包括激光器功率,偏振度,線寬要求)進(jìn)行了
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