恒功率超高壓汞燈電源控制技術.pdf

1、在微電子光刻工藝中，光源的穩(wěn)定性直接影響著基片的曝光量，隨著集成電路和各類微電子元器件集成度的不斷提高，對光源的穩(wěn)定度提出了更高的要求。研制高性能的恒功率超高壓汞燈電源，可以有效提高光強穩(wěn)定度，實現(xiàn)曝光量的精確控制。本課題源自中國電子科技集團公司第四十五研究所承擔的縱向課題特種器件雙面曝光機的一項關鍵技術：恒功率超高壓汞燈電源的研制。 本文分析了超高壓汞燈的電氣特性以及對電源的特殊要求，提出用模擬乘法器將電壓、電流信號轉變?yōu)楣β?/p>

2、信號，通過脈寬控制(PwM)技術實現(xiàn)汞燈恒功率控制的總體方案。 進行恒功率汞燈電源的設計，將模擬乘法器、電流滯洄比較器應用于脈寬控制電路，實現(xiàn)了對汞燈的恒功率控制和啟動電流的限制。 對電源系統(tǒng)進行可靠性設計，提出了提高功率穩(wěn)定精度和系統(tǒng)可靠性的具體措施，保證了電源系統(tǒng)的功率穩(wěn)定度和可靠性。 對電源系統(tǒng)進行測試分析，驗證了設計思想和技術指標；測試結果表明，技術指標完全達到了設計要求。 本課題研制的特種器件雙