激光打標的物理機制研究.pdf

1、激光打標技術在近年來得到了快速的發(fā)展和廣泛的應用，已經成為了一種重要的標刻手段。由于技術成熟、使用壽命長、加工精度好、效率高等優(yōu)點，二氧化碳激光器和Nd：YAG激光器在激光打標中占有很大的席位。它們分別發(fā)射10.6μm和1.06μm的紅外激光。但是某些材料對紅外激光吸收率不高，為獲得清晰的標刻效果，就需要增加激光光源的功率和重復率。這樣做帶來的問題是對材料的非標刻區(qū)的熱損傷及熱擴散比較嚴重、加工精度不高、打標效果不好。這些缺點在某些應用

2、中是無法接受的，因此開發(fā)其它波長的激光打標光源就顯得勢在必行了。目前國內外都在大力發(fā)展紫外激光打標，如準分子激光和二極管泵浦紫外激光(DPSS)打標，由于某些材料(特別是金屬材料)對紫外光的吸收大，并且由于紫外激光具有很短的脈沖寬度，激光對材料的作用只發(fā)生在材料的最表層，因此紫外激光被稱為“冷激光源”。這樣就彌補了以上兩種紅外激光器的缺陷。 本文試圖從理論上研究激光光源打標的物理機制，并給出一些定量的計算結果對不同波長激光在不同