羥基磷灰石膜層及粉體的制備研究.pdf_第1頁(yè)
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1、本論文運(yùn)用微弧氧化技術(shù)，以醋酸鈣和磷酸二氫鈉為反應(yīng)物，在純鈦表面制備了鈦基羥基磷灰石陶瓷膜層。在電解液中添加了不同的表面活性劑，研究了添加表面活性劑對(duì)制備陶瓷膜層的影響。得到的膜層經(jīng)過(guò)掃描電子顯微鏡(SEM)、x射線能譜儀(EDS)分析檢測(cè)， 結(jié)果表明，添加表面活性劑后，所制備的鈦基羥基磷灰石膜層中鈣磷比率明顯提高，膜層中的鈣和磷的含量也有明顯增加。通過(guò)向電解液中添加SiO2、CuO、Ag2O粉體，制備了含有Si、Cu、Ag元素

2、的鈦基羥基磷灰石膜層。通過(guò)掃描電子顯微鏡(SEM)、X射線能譜儀(EDS)、X射線衍射儀(XRD)分析發(fā)現(xiàn)，Si、Cu、Ag元素被成功添加進(jìn)了膜層，體現(xiàn)出微弧氧化技術(shù)的優(yōu)勢(shì)。利用溶膠凝膠法制備出了羥基磷灰石粉體，對(duì)所得樣品進(jìn)行了高倍視頻顯微儀觀察、X射線衍射儀(XRD)和透射電子顯微鏡(TEM)檢測(cè)，研究不同煅燒溫度以及添加不同的分散劑對(duì)顆粒粒徑大小及分布的影響。 通過(guò)實(shí)驗(yàn)，得到了理想的羥基磷灰石粉體制備工藝參數(shù)，由此可得到結(jié)晶

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