版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)
文檔簡介
1、GaN MOSFET器件在高溫、高頻、大功率等方面具有廣闊的應(yīng)用前景,受到越來越多關(guān)注,目前對該器件的研究正處于起步階段。對于n-GaN MOSFET器件,實驗上的文章相對較少,制約其性能的主要因素是襯底p型摻雜和柵介質(zhì)/GaN的界面質(zhì)量,本論文針對這兩個因素從GaN體材料的遷移率和界面態(tài)出發(fā),以計算機模擬的角度對GaN MOSFET器件的基本特性進行了研究,這些研究包括:在新一代TCAD器件物理特性仿真工具Sentaurus軟件的基礎(chǔ)
2、上,對器件模擬的物理模型進行修正,建立了新的經(jīng)過實驗驗證的模型,利用新的物理模型模擬GaN MOSFET的直流特性,溫度特性以及交流特性。研究的結(jié)果如下: (1)使用目前最新的實驗數(shù)據(jù),對GaN材料的禁帶寬度,介電常數(shù)等材料參數(shù)進行了修正,對器件物理特性模擬中使用的復(fù)合模型,非完全電離模型等物理模型進行完善,通過實驗擬合的方法得到了GaN的低場遷移率,界面遷移率以及高場遷移率模型的修正表達形式。 (2)與文獻的實驗數(shù)據(jù)對
3、比,分析室溫GaN MOSFET器件的轉(zhuǎn)移特性和輸出特性,結(jié)果表明模擬中使用的模型能夠正確描述GaN器件的物理特性,并且通過對柵長,氧化層厚,溝道摻雜,電極間距以及界面態(tài)的討論,分析器件結(jié)構(gòu)設(shè)計中的技術(shù)關(guān)鍵,結(jié)果認為GaN MOSFET在柵長小于0.7μm時器件的短溝效應(yīng)明顯,在優(yōu)化的器件結(jié)構(gòu)下,預(yù)測器件的閾值電壓在1V左右,飽和漏電流達到mA/μm量級,跨導(dǎo)值為26mS/mm量級。 (3)利用文獻實驗數(shù)據(jù),驗證了器件物理模型對
4、高溫GaN MOSFET的器件描述的正確性,分析討論在300K到800K溫度范圍內(nèi),器件轉(zhuǎn)移特性以及輸出特性對溫度的響應(yīng),得出導(dǎo)致器件性能衰退的主要因素是遷移率以及載流了飽和漂移速度隨溫度的變化。對應(yīng)我們分析的器件結(jié)構(gòu),結(jié)果表明溫度300K到800K變化時引起器件的飽和漏電流和跨導(dǎo)的變化幅度分別為50%和58%,但在800K時依然能夠達到0.39mA/μm飽和漏電流以及10mS/mm跨導(dǎo),確定器件的零溫度系數(shù)點在1.4V。 (4
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- GaN MOSFET器件的研究.pdf
- 基于ISE的MOSFET器件電學(xué)特性模擬分析與研究.pdf
- 團簇與納電子原型器件特性的計算機模擬.pdf
- 臥式HVPE生長GaN的計算機模擬.pdf
- 立式HVPE生長GaN的計算機模擬.pdf
- 4H-SiC功率MOSFET特性研究與器件模擬.pdf
- GaN電子器件的物理特性模擬及分析.pdf
- 光控SiC器件的計算機模擬.pdf
- 新型SOI MOSFET器件結(jié)構(gòu)研究與電特性分析.pdf
- GaN基凹槽柵MOSFET器件設(shè)計與制備技術(shù)研究.pdf
- 半導(dǎo)體器件計算機模擬新方法研究.pdf
- MEMS器件的計算機輔助設(shè)計與模擬方法研究.pdf
- Virtual Source模型模擬分析GaN基電子器件特性研究.pdf
- 車輛側(cè)面碰撞計算機模擬分析與評價研究.pdf
- 納米材料及功能器件的計算機模擬與設(shè)計.pdf
- CCD計算機模擬研究.pdf
- SiC功率器件特性研究與模擬分析.pdf
- 新型MOSFET器件結(jié)構(gòu)設(shè)計、建模及特性模擬.pdf
- 鐵電薄膜疲勞特性的計算機模擬.pdf
- 計算機模擬課件
評論
0/150
提交評論