咬合垂直距離升高后咬合重建修復患者的頭影測量分析.pdf

1、目的: 采用X線頭影測量方法研究升高咬合垂直距離（Occlusal Vertical Dimension，OVD）后咬合重建患者的軟硬組織變化情況，為升高后OVD長期穩(wěn)定性的后續(xù)研究提供數(shù)據(jù)基線。 方法: 收集2007年1月～2008年7月于中山大學光華口腔醫(yī)學院·附屬口腔醫(yī)院修復科李彥醫(yī)師接診并行咬合升高后咬合重建修復的15例病例，分別于OVD升高前及咬合重建完成時拍攝X線頭顱側(cè)位片，采用WinCept8.0頭

2、影測量分析系統(tǒng)，選擇以骨性標志為主的JarabakAnalysis、McNamara和TweedAnalysis為主要測量體系，共選擇測量指標41項，構(gòu)成本研究的測最系統(tǒng)。兩次定點測量取其平均值，統(tǒng)計學檢測所得數(shù)據(jù)為正態(tài)分布，故采用自身前后對照的配對t檢驗統(tǒng)計分析方法比較咬合升高前后各項指標的差異是否有統(tǒng)計學意義。 結(jié)果: 1.兩次X線頭顱側(cè)位片定點測量值的配對t檢驗結(jié)果顯示：在a=0.05下，各測量指標兩次測量的區(qū)別無

3、統(tǒng)計學意義； 2.OVD升高后反映顱部骨性結(jié)構(gòu)及上頜骨相對顱部的測量參數(shù)與OVD升高前相比，其變化無統(tǒng)計學意義，P>0.05； 3.OVD升高后描述頜骨矢狀向關系的頭影測量結(jié)果與OVD升高前相比，SNB角、SND角、SNPg角、頜凸角及SN與Y軸交角的變化有統(tǒng)計學意義，P<0.05； 4.OVD升高后描述頜骨垂直向關系的頭影測量值與升高前相比較，差異有統(tǒng)計學意義的測量參數(shù)有：前下面高、前面高、后面高、下面高、全面

4、高、Me到FH的距離、FMA角、下頜平面角、Go—Gn與SN的夾角，P<0.05； 5.OVD升高后描述下頜骨形態(tài)的參數(shù)頭影測量結(jié)果與升高前相比較，差異有統(tǒng)計學意義的測量參數(shù)有：SL和SE，P<0.05； 6.OVD升高后描述(牙合)的頭影測量值與升高前相比較，差異有統(tǒng)計學意義的有：覆頜，IMPA及FMIA，P<0.05； 7.OVD升高后描述軟組織側(cè)貌的頭影測量值與升高前相比較，差異有統(tǒng)計學意義的有：Z角、Sn