交替移相掩模技術的版圖優(yōu)化方法研究.pdf

1、隨著集成電路的不斷發(fā)展,電路特征尺寸不斷縮小。在電路尺寸達到納米量級的今天,設計與工藝的獨立性被打破,引發(fā)了一系列可制造性設計問題與相關研究。交替移相掩模是一種通過對掩模版進行相位偏移而提高光刻分辨率的先進工藝技術,用來解決深亞波長光刻下由于衍射效應引起的圖形失真問題。交替移相掩模技術的版圖優(yōu)化是可制造性設計領域的計算機輔助設計技術,用于對版圖進行相應技術的修改。
　　 本文提出了一種交替移相掩模版圖優(yōu)化軟件原型FDPSM(Fu

2、dan Phase ShiftMask),以及在FDPSM中應用的交替移相掩模技術版圖優(yōu)化的相關數(shù)據(jù)結構和算法,實現(xiàn)暗場條件下的相位沖突檢測和相位分配。
　　 本文提出了一種基于三連通分支分解的相位分配算法TCDBPA(Tricormected—Component-Decomposition Based Phase Assignment)。由于版圖龐大的數(shù)據(jù)量,已有的相位分配算法難以處理全芯片級的交替移相掩模問題。TCDBPA應

3、用分而治之的思想,將相位沖突圖分解成各個三連通分支,然后在傳統(tǒng)算法基礎上結合三連通分支的性質對各個分支進行求解,最后合理地合并各個解集并進行最終相位分配。由于有效地降低了問題規(guī)模,因此能夠提高求解速度,從而該算法可以應用于規(guī)模巨大的全芯片級的移相掩模版圖優(yōu)化中。
　　 本文還提出了一種改進的動態(tài)優(yōu)先搜索樹數(shù)據(jù)結構,應用于沖突檢測中以查詢版圖圖形之間的沖突情況,加快相位沖突圖的構建時間。相比于傳統(tǒng)的動態(tài)優(yōu)先搜索樹,本文數(shù)據(jù)結構邏輯