鹽湖鹵水制備硅鋼級氧化鎂的研究.pdf

1、硅鋼氧化鎂用作取向硅鋼片生產(chǎn)中的高溫退火隔離劑，作用于硅鋼片表面時，在其表面形成良好的玻璃膜即絕緣涂層，增強了硅鋼片的絕緣性能，同時也降低了硅鋼片的鐵心損耗。但目前我國硅鋼級氧化鎂大都采用白云石碳化工藝技術(shù)路線，產(chǎn)品含雜質(zhì)較多，不能完全滿足硅鋼片生產(chǎn)的要求。本論文以鹽湖水氯鎂石為原料，采用氨沉淀法制備前軀體高純氫氧化鎂，然后經(jīng)高溫煅燒制取硅鋼級氧化鎂，并對相關(guān)工藝過程和制備反應(yīng)條件進行了研究。 通過對前軀體高純氫氧化鎂的制備研究

2、，確定了鹵水Mg2+濃度為4.3mol/L，氨水濃度為28％，反應(yīng)溫度90℃，鹵水加入速度為3.3mL/min，反應(yīng)pH值為9.0的最佳試驗條件。此條件下制備出的前軀體氫氧化鎂沉降性能好，鎂轉(zhuǎn)化率達到95％，樣品晶形為六方晶系結(jié)構(gòu)，其純度達到99.6％，氫氧化鎂中位粒徑Dso為22.643μm。 將前軀體氫氧化鎂進行超細粉碎后，在高溫爐中煅燒制取氧化鎂，重點考察了煅燒溫度、煅燒時間等因素對氧化鎂水化率的影響，其檢驗結(jié)果表明，隨著

3、煅燒溫度的升高及煅燒時間的延長，氧化鎂的水化率呈現(xiàn)出下降的趨勢，而且在真空狀態(tài)冷卻，其效果更好。通過煅燒實驗，確定的最優(yōu)煅燒實驗條件為：煅燒溫度1200℃，煅燒時間3小時，制取的氧化鎂的水化率為3.47％，符合硅鋼級氧化鎂的要求。而在真空條件下冷卻效果更好，可使水化率降至3.20％。 XRD分析結(jié)果表明，氧化鎂中不含雜質(zhì)相。經(jīng)化學(xué)分析，氧化鎂的純度達到99.85％。采用ICP-AES對氧化鎂中雜質(zhì)含量進行了檢測，主要雜質(zhì)鈣、鐵