環(huán)形拋光技術(shù)研究.pdf

1、現(xiàn)今許多大型系統(tǒng)需要大量的大口徑高精度平面光學(xué)元件,在此類(lèi)元件的加工中,環(huán)拋(ContinuousPolishing)是一種非常重要的拋光技術(shù),但目前它還存在著一些問(wèn)題:對(duì)操作者的經(jīng)驗(yàn)依賴(lài)太強(qiáng),加工效率不高,加工質(zhì)量也不穩(wěn)定。原因是對(duì)拋光磨削的規(guī)律認(rèn)識(shí)不夠,對(duì)工藝參數(shù)的影響,沒(méi)有一個(gè)準(zhǔn)確的認(rèn)識(shí)。本論文從理論和實(shí)驗(yàn)兩個(gè)方面對(duì)環(huán)拋進(jìn)行了研究。首先總結(jié)了環(huán)拋工藝中的主要問(wèn)題,對(duì)比國(guó)內(nèi)外環(huán)拋加工技術(shù)的主要系統(tǒng)和特征,在此基礎(chǔ)上進(jìn)行材料去除量的理

2、論分析和工藝實(shí)驗(yàn)研究。針對(duì)拋光模與工件的機(jī)械磨削作用,根據(jù)Preston方程及對(duì)工件的相對(duì)運(yùn)動(dòng)分析,完善了磨削去除的理論模型,并從理論上分析了工件表面去除量規(guī)律。引入相對(duì)磨削量概念來(lái)反映磨削均勻程度,從理論上分析了速度(轉(zhuǎn)速比)、偏心距、壓強(qiáng)(均勻和不均勻)以及工件露邊對(duì)磨削量和相對(duì)磨削的影響規(guī)律。對(duì)拋光瀝青的力學(xué)性質(zhì)作了初步分析,利用有限元方法,對(duì)拋光瀝青、光學(xué)元件進(jìn)行了彈性狀態(tài)假設(shè)下的受力分析。得到了工件、校正盤(pán)與拋光盤(pán)表面之間的接