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文檔簡介
1、SU-8光刻膠是一種負性光刻膠,在紫外光下有很好的光刻特性。近年來,SU-8光刻膠在制作高深寬比的微結(jié)構(gòu)和微器件方面取得了不少成果,引起了廣泛關(guān)注。然而,SU-8膠與金屬基底的粘附性低會導(dǎo)致膠體與基體間的結(jié)合失敗,進而使膠體從金屬基底上脫落,制約了SU-8膠圖形分辨率和深寬比的提高。但是,目前對于如何提高SU-8膠粘附性的研究多集中在改善工藝參數(shù)、優(yōu)化掩膜版設(shè)計和化學(xué)改性上。
本文旨在通過超聲處理技術(shù)提高SU-8膠與金屬基底的
2、粘附性,分析了超聲輸入功率對SU-8膠與金屬基底粘附性的影響。提出了一種通過超聲處理提高SU-8膠與金屬基底粘附性的方法,這種方法的優(yōu)點是有效地避免了先前過多依賴實驗提高膠層與金屬基底的粘附性的方法,大大地節(jié)省了實驗成本和時間。
本文從超聲處理減小SU-8膠層內(nèi)應(yīng)力的角度,分析了超聲處理提高SU-8膠與金屬基底粘附性的機理,認(rèn)為膠層內(nèi)應(yīng)力是影響膠層與金屬基底粘附性的主要因素。通過超聲處理可以有效的消除交聯(lián)網(wǎng)的缺陷,降低膠層內(nèi)應(yīng)
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