動(dòng)態(tài)分形數(shù)字掩模技術(shù)制作微透鏡及其陣列的研究.pdf

1、隨著微光學(xué)器件的應(yīng)用越來越廣泛，微光學(xué)器件正在朝更微形化、陣列化、結(jié)構(gòu)復(fù)雜化等多個(gè)方面發(fā)展，并已經(jīng)取得了很多卓有成效的研究。針對(duì)不同場(chǎng)合的需求，對(duì)微光學(xué)器件的光學(xué)性能提出了越來越高的要求，所以對(duì)微光學(xué)器件的制作方法也提出了越來越高的要求。微光學(xué)器件的制作方法從傳統(tǒng)的機(jī)械方法到數(shù)字化掩模光刻技術(shù)，技術(shù)的每一次更新都相應(yīng)的解決了微光學(xué)器件制作過程中的難題。本文基于對(duì)多種數(shù)字無掩模光刻技術(shù)的充分研究，針對(duì)其中存在的不足之處，創(chuàng)新的提出來一種制

2、作微光學(xué)器件的方法。本文研究的主要工作有：
　　1.通過研究了大量最新的相關(guān)資料，透徹分析了各種微光學(xué)器件制作方法的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)之后，引出本文研究的主要內(nèi)容——?jiǎng)討B(tài)分形數(shù)字掩模技術(shù)，以及分析研究該技術(shù)的必要性。
　　2.詳細(xì)闡述了動(dòng)態(tài)分形數(shù)字掩模技術(shù)的原理及其相關(guān)理論。并且提出了動(dòng)態(tài)分形曝光法的設(shè)計(jì)以及分析了該曝光方法提出的必要性,通過實(shí)驗(yàn)證明動(dòng)態(tài)分形曝光方法有利于制作出三維面形良好的微透鏡及其陣列。
　　3.闡述了動(dòng)態(tài)

3、分形數(shù)字掩模技術(shù)的設(shè)計(jì)理論，提出了動(dòng)態(tài)分形量化法以及對(duì)曝光時(shí)間確定簡便的方法。隨后利用MATLAB軟件對(duì)動(dòng)態(tài)分形數(shù)字掩模技術(shù)的理論進(jìn)行了仿真實(shí)驗(yàn)，實(shí)驗(yàn)結(jié)果證明該技術(shù)的動(dòng)態(tài)分形量化法和確定曝光時(shí)間的理論是完全可行的。
　　4.在設(shè)計(jì)曝光掩模圖形的過程中，創(chuàng)新的將三種制作方法的數(shù)字掩模曝光圖形設(shè)計(jì)在同一幅掩模圖形中并進(jìn)行曝光，實(shí)驗(yàn)得到了本文預(yù)想的結(jié)果。隨后還利用動(dòng)態(tài)分形數(shù)字掩模技術(shù)進(jìn)行微透鏡陣列和光柵陣列的制作實(shí)驗(yàn)，以進(jìn)一步驗(yàn)證該技術(shù)