含鎳三氯化鐵蝕刻廢液的資源化工藝研究.pdf_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

1、隨著電子工業(yè)的迅猛發(fā)展,三氯化鐵蝕刻液的需求量逐步增加。在蝕刻工藝中,大量失效的三氯化鐵蝕刻液不可避免地從生產(chǎn)線(xiàn)上排出。該廢液若不經(jīng)處理而排放,不僅會(huì)污染環(huán)境,還會(huì)造成資源的極大浪費(fèi)。若能對(duì)其處理及再利用,不僅可以實(shí)現(xiàn)良好的環(huán)境效益,還有可觀(guān)的經(jīng)濟(jì)效益。
  本文采用膜電解分離法對(duì)該廢液進(jìn)行再生及資源化利用研究,電解后的陽(yáng)極液可直接返回蝕刻工藝,陰極液可制備納米鐵黃粉體,并對(duì)其親油性改性,旨在減少顏料制備過(guò)程中的油量添加量。同時(shí)對(duì)

2、納米鐵黃粉體制備后的母液進(jìn)行除鎳、除COD研究,其研究結(jié)論如下:
  (1)膜電解再生含鎳三氯化鐵蝕刻廢液方法可行。其最佳工藝條件為:當(dāng)陽(yáng)極室與陰極室流量比為4:1,電解槽電壓為6.0V,電流密度在90A/m2~120A/m2之間時(shí),電解電流效率最高可達(dá)95%以上。
  (2)通過(guò)靜態(tài)蝕刻實(shí)驗(yàn)對(duì)電解后的陽(yáng)極液(即再生蝕刻液)進(jìn)行蝕刻性能評(píng)價(jià),結(jié)果表明該再生液完全滿(mǎn)足蝕刻液蝕刻性能要求,且最佳蝕刻條件為:蝕刻溫度為50℃、蝕刻

3、液濃度為原再生蝕刻液濃度的90%、蝕刻液游離酸濃度達(dá)到0.3mol/L以上時(shí)再生蝕刻液的蝕刻速率最大。
 ?。?)采用化學(xué)沉淀法利用電解后的陰極液進(jìn)行納米鐵黃制備實(shí)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明在溫度為20℃,陰極液(50%,經(jīng)蒸餾水稀釋后)和十六烷基三甲基溴化銨溶液(濃度為0.4g/L)的體積比為5:1,0.4mol/L氫氧化鈉調(diào)節(jié)反應(yīng)體系pH為4,空氣流量為6.45L/(L·min),通氣時(shí)間為40h時(shí),得到的納米鐵黃粉體產(chǎn)率為92.3%,

4、并且其各項(xiàng)指標(biāo)均達(dá)到 GB/T1863-2008標(biāo)準(zhǔn),其形貌為針形,長(zhǎng)軸約為170nm,短軸約為20nm。
  (4)利用十二烷基苯磺酸鈉(SDBS)對(duì)納米鐵黃進(jìn)行親油性改性,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,當(dāng)SDBS用量為7%,溫度為30℃,改性時(shí)間為30min,pH為3.5時(shí),其親油化度高達(dá)54.7%。改性后的吸油量由改性前的65.1g/100g降低至34.7g/100g,顏料制作過(guò)程中油量添加量可減少一半,生產(chǎn)成本可大幅度降低。
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5、5)對(duì)納米鐵黃制備后的母液進(jìn)行除鎳、除 COD研究。除鎳研究結(jié)果表明,在室溫條件下,母液 pH為中性,硫化鈉投加量為過(guò)量系數(shù)3.57,反應(yīng)時(shí)間為30min時(shí),除鎳廢水總鎳含量小于電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)GB21900-2008中污染物排放限值(1.0mg/L)。除COD研究結(jié)果表明,在室溫條件下,活性炭投加量為2.0g/L,反應(yīng)時(shí)間為50min,經(jīng)10%鹽酸調(diào)節(jié)pH后該廢水可達(dá)標(biāo)排放,其COD含量小于電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)GB21900-2008

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