貝爾德直讀光譜儀培訓(xùn)題材

1、貝爾德直讀光譜儀培訓(xùn)題材貝爾德直讀光譜儀培訓(xùn)題材一一光電直讀光譜分析的應(yīng)用近況及新發(fā)展光電直讀光譜分析的應(yīng)用近況及新發(fā)展DV41000型光電直讀光譜儀，1964年美國(guó)貝爾德公司開始生產(chǎn)光譜儀持續(xù)生產(chǎn)了DV2、DV4、DV6，從70年代進(jìn)入中國(guó)，直讀其實(shí)就是直觀可見數(shù)據(jù)的意思。現(xiàn)在市專場(chǎng)上的光譜有德國(guó)的OBLF、斯派克，美國(guó)的ARL國(guó)產(chǎn)的瑞利（但國(guó)產(chǎn)的缺點(diǎn)是高合金鋼和極低含分析誤差大）。DV41000中1000是指焦距，曲率半徑為1000

2、mm的凹球面鏡，光源：KH35型，重復(fù)頻率100周（現(xiàn)在新產(chǎn)光源都在400周以上），頻率低的缺陷：峰壓不穩(wěn)定，隨交流供電的電壓和頻率的波動(dòng)造成分析數(shù)據(jù)的漂移，嚴(yán)重影響分析的精度和準(zhǔn)確度。二二光電光譜分析的原理光電光譜分析的原理（光譜光室分布圖）試樣經(jīng)過(guò)激發(fā)時(shí)，不同元素的原子，在火焰、電弧、火花等光源激發(fā)下，由于原子能級(jí)躍遷發(fā)射出特有的譜線，即“特征譜線”，能通過(guò)入射光學(xué)系統(tǒng)到光柵上，光柵將光分解成光譜，這些光譜線代表樣品中的各個(gè)元素，各

3、元素光譜線的強(qiáng)度與樣品中元素的含量成比例，每一元素至少有一條光譜線通過(guò)出口狹縫，射到光電倍增管的光陰極上，當(dāng)元素的濃度變化時(shí)光譜線的強(qiáng)度也變化，光電倍增管的輸出電流也隨之變化，除了元素光譜線以外，用一條或更多的光譜線作為內(nèi)標(biāo)線它將與元素線相比，通過(guò)測(cè)量板將從元素電容器送來(lái)的模擬分析數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號(hào)，然后計(jì)算機(jī)進(jìn)行計(jì)算元素的含量。三三光電光譜的光學(xué)系統(tǒng)及光轉(zhuǎn)換光電光譜的光學(xué)系統(tǒng)及光轉(zhuǎn)換影響儀器的穩(wěn)定性：1.開機(jī)后的預(yù)熱時(shí)間，2.掃描時(shí)的

4、誤差，3.電源電壓的穩(wěn)定性，4.長(zhǎng)時(shí)間的外圍環(huán)境的變動(dòng)（包括室溫，震動(dòng)等等）。4標(biāo)準(zhǔn)化的確定標(biāo)準(zhǔn)化的確定標(biāo)準(zhǔn)化（重新校正）的必要性，標(biāo)準(zhǔn)化的頻率主要取決于儀器的穩(wěn)定性，因儀器經(jīng)一段時(shí)間的使用后，外圍條件的影響各項(xiàng)硬件都有微量的偏移或變動(dòng)，致使分析時(shí)產(chǎn)生誤差，一般在1天1次，標(biāo)準(zhǔn)化樣品和控樣都必須在制作工作曲線時(shí)一起編入，否則會(huì)造成無(wú)法進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化和控樣存在的系統(tǒng)偏差，兩者的樣品都必須是成份均勻，無(wú)夾雜氣孔等。5鑄鐵，高硅鋁合金等難分析樣品

5、的處理鑄鐵，高硅鋁合金等難分析樣品的處理此類樣品在澆注后及易產(chǎn)生球化使碳偏析和聚集，在光譜分析時(shí)偏析和聚集的碳都以孔洞的性質(zhì)出現(xiàn)而不能分析。必須采取擊冷方式（用一個(gè)鐵模，制成一個(gè)鐵圓，以前我們也有一個(gè)），使其白口化來(lái)避免以上情況。但有些鋼也有另外如：我們的高鉻鑄鐵，因鉻是阻礙球化元素而且含量又高，雖然是鑄鐵也使其白口化。還有一些高合金，硬質(zhì)合金鋼，對(duì)砂輪的要求也要粗一些，使試樣表面產(chǎn)生磨痕，使其在激發(fā)時(shí)易使金屬蒸發(fā)。6取樣和制樣：光譜分