雙響應(yīng)可降解光刻膠的制備及應(yīng)用.pdf

1、納米壓印光刻技術(shù)是一種應(yīng)用于制備集成電路的最有前途、新一代的光刻技術(shù)，它克服了傳統(tǒng)光學(xué)光刻技術(shù)中圖形分辨率受最短曝光波長的物理限制，對信息技術(shù)的發(fā)展起著重要作用。本論文研究設(shè)計(jì)了一種通過硫醇-烯“點(diǎn)擊化學(xué)”聚合和香豆素二聚得到主鏈含有可水解的酸酐和可逆交聯(lián)劑香豆素的交聯(lián)網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，能對pH值和紫外光雙重響應(yīng)的可降解光刻膠，并將其應(yīng)用于微型圖案的制備。主要目的是解決納米壓印過程中的界面問題，降低模板的清洗難度，提高模板的使用壽命和降低環(huán)境污

2、染及生產(chǎn)成本。
　　首先，我們設(shè)計(jì)并合成了一種含香豆素的可逆交聯(lián)劑5，7-二丙烯酰氧基-4-甲基香豆素(DAMC)，利用核磁共振儀、傅里葉紅外光譜儀、質(zhì)譜儀和元素分析對其結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征。將其與3，6-二氧雜-1，8-辛烷二硫醇(EGDT)、丙烯酸酐(ALA)和光引發(fā)劑α，α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮(DMPA)復(fù)配得到對pH值和紫外光雙重響應(yīng)的可降解型光刻膠。
　　其次，研究了該光刻膠的化學(xué)特性和物理特性，包括反應(yīng)動(dòng)力學(xué)、透光