亞像素掃描調(diào)制系統(tǒng)參數(shù)優(yōu)化研究.pdf

1、微光學(xué)元件目前在光信息處理、光通信、微光學(xué)傳感器，超精細(xì)加工等許多光學(xué)領(lǐng)域方面獲得了越來越廣泛地應(yīng)用。微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件正向微型化、陣列化等方向發(fā)展，器件的尺寸要求變得越來越小，相應(yīng)地使得制作微光學(xué)元件的方法要求越來越高。鑒于制作微光學(xué)元件技術(shù)需要克服光刻技術(shù)效率不高，提高分辨率等研究問題，提出了一種基于DMD數(shù)字掩模制作技術(shù)制作微光學(xué)元件的新方法。
　　本文通過對基于DMD數(shù)字掩模制作技術(shù)理論研究，通過實驗仿真對傾斜角度theta和

2、掃描步長等實驗參數(shù)的匹配優(yōu)化研究，實現(xiàn)了改善分辨率的可行性，并且探究二者誤差對成像質(zhì)量的影響，為探索微光學(xué)元件的制作方法提供一條新的途徑。論文的主要研究工作如下：
　　1、詳細(xì)研究了亞像素掃描調(diào)制光刻技術(shù)的原理，以及單方向掃描調(diào)制數(shù)字掩模提高分辨率的機理。分別設(shè)計了幾種優(yōu)化的數(shù)字掩模，包括二元光柵掩模、微透鏡掩模和微透鏡陣列掩模，通過仿真上述掩模沿不同傾斜角單方向移動積累的曝光量來驗證亞像素掃描調(diào)制光刻技術(shù)，從而改善光刻成像質(zhì)量的