基于EPP的場發(fā)射參數(shù)測量系統(tǒng).pdf

1、該課題是國家自然基金項目——納米晶金剛石薄膜場發(fā)射陣列陰極研究的一部分.根據(jù)場發(fā)射的特性,研究其特性參數(shù)的測量,以及根據(jù)測量結果計算出各參數(shù)間的關系式.根據(jù)要求,設計一個場發(fā)射參數(shù)的測量系統(tǒng),此系統(tǒng),工作在手動方式下可以測出某一時刻點的場發(fā)射的陽極電流、陽極電壓、柵極電流、柵極電壓,作為一臺單獨的測量儀.也可以工作在自動方式下通過并行接口(工作于EPP模式),把測量到的數(shù)據(jù)輸入計算機,在計算機顯示特性參數(shù)間的關系曲線,以及求出參數(shù)間的數(shù)

2、學關系式,其采樣頻率可達4Khz.測量儀采用89C51單片機作為其控制核心,其數(shù)據(jù)采集分辨率為12位.該文重點討論了數(shù)據(jù)采集電路的實現(xiàn)、儀器與計算機的通信以及對測量數(shù)據(jù)的處理.該論文內容安排如下:第一章:介紹了研究工作的背景、實際意義和系統(tǒng)的整體框架設計.第二章:主要討論了數(shù)據(jù)采集電路的設計.第三章:主要討論了以單片機89C51為核心的控制系統(tǒng)的硬件設計以及數(shù)據(jù)處理和控制流程.第四章:介紹了EPP接口,討論了測量儀與計算機通信硬件電路的