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1、上海交通大學(xué)碩士學(xué)位論文CoSi和ZrCr金屬間化合物微結(jié)構(gòu)的高分辨透射電鏡研究姓名:周鷗申請學(xué)位級別:碩士專業(yè):材料學(xué)指導(dǎo)教師:孫堅20070101IIHRTEMSTUDYOFMICROSTRUCTUREINCoSi2ZrCr2INTERMETALLICCOMPOUNDSABSTRACTHighresolutiontransmissionelectronmicroscopy(HRTEM)isapowerfulmeansfidentif
2、icationstudyofmaterialmicrostructure.AttributedtothedevelopmentofHRTEMwecanmakeuseofittoinvestigatethemicrostructureofmaterialsonatomicscales.themaincontentofthispaperistakingadvantagesofHRTEMtoinvestigatethemicrostructu
3、reduringannealingofamphousCoSi2CoSi2withadditionof5at%ZrfilmsthemicrostructureofZrCr2Zr(CrV)2Lavesphasewithadditionof2at%VstudytheinfluencemechanismofternaryalloyingontheZrCr2Lavesphasestability.TheresultsofTEMobservatio
4、nindicatethatamphousCoSi2filmafterannealedat250℃remainsamphousstructureshowingthemphologyoffinefiber.Afterannealedat350℃amphousCoSi2filmstartstocrystallizepartlythecrystalphasesareCoSiwithalittleofCoSi2whilethemphologyof
5、finefiberdoesn’tchange.TheamphousCoSi2withadditionof5at%Zrfilmcrystallizesafterannealedat550℃withsingleCoSi2phase.themphologyremainsfiberstructureatthisconditionmostly.Afterannealedat800℃thefilmcrystallizes.BesidesCoSi2p
6、hasethereisZrSi2phasecrystallizedout.Themphologyoffinefibertransfmstofineequiaxiscrystalstructure.TakingadvantagesofHRTEMtostudythemicrostructureattheinterfacebetweenfilmsputteredSisubstrateonatomicscale.Attheinterfacebe
7、tweenamphousCoSi2withadditionof5at%Zrfilm(100)Sisubstrateafterannealedat550℃CoSi2interfacialreactivephasewith(100)CoSi2(100)‖Si[011-]CoSi2[01‖1-]SirelationshipwhichisthesameasSiisfirstfound.Whiletwinnedrelationshipsbetwe
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