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文檔簡介
1、采用LB技術(shù)在石英襯底上制備出ZnO薄膜以及MgxZn1-xO薄膜,研究了ZnO及MgxZn1-xO薄膜的成膜條件和拉膜條件,并對制備的ZnO及MgxZn1-xO薄膜進(jìn)行了X射線衍射分析(XRD)、紫外-可見光譜(UV-Vis)分析及原子力顯微鏡(AFM)的表征。對不同層數(shù)及不同Mg摻雜量對MgxZn1-xO光學(xué)性能的影響進(jìn)行了探討。
通過LB膜技術(shù),確定了較佳的亞相濃度,滑障速度,鋪展液的靜置時(shí)間,鋪展量;在適宜的轉(zhuǎn)移膜壓、
2、基片向上提拉速度、向下浸入速度,可獲得轉(zhuǎn)移比在1.0附近,性能穩(wěn)定的硬脂酸/ZnO復(fù)合LB膜。在此基礎(chǔ)上確定了亞相濃度,滑障速度,鋪展液的靜置時(shí)間,鋪展量等較佳的MgxZn1-xO薄膜的成膜條件;轉(zhuǎn)移膜壓,基片向上提拉速度,向下浸入速度等拉膜條件,獲得轉(zhuǎn)移比在1.0附近,性能穩(wěn)定的硬脂酸/MgxZn1-xO復(fù)合LB膜。
通過熱處理,獲得了ZnO和MgxZn1-xO粉體及超薄膜。采用X射線衍射(XRD)檢測其結(jié)晶狀態(tài),并通過紫外
3、-可見光譜(UV-Vis)對復(fù)合LB膜的層間重疊情況進(jìn)行了考查。ZnO及MgxZn1-xO復(fù)合LB膜及超薄膜的表面形貌及粒子覆蓋度等信息,則通過原子力顯微鏡(AFM)進(jìn)行了檢測。采用PL光譜研究了不同層數(shù)和Mg摻雜量對ZnO及MgxZn1-xO薄膜光學(xué)性能的影響。摻入Mg后,薄膜的結(jié)晶質(zhì)量提高。隨著Mg的摻雜量x的增加,MgxZn1-xO薄膜的紫外發(fā)射強(qiáng)度增大;當(dāng)x≥0.4時(shí),紫外發(fā)射峰強(qiáng)度減小。在Mg摻雜量一定的情況下,隨著提拉層數(shù)的
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