RFMS法制備ZnO薄膜及其性能研究.pdf

1、采用直流反應磁控濺射的方法，通過改變?yōu)R射功率、改變工作壓強、改變襯底溫度以及退火處理等方法，在玻璃襯底上制備了ZnO薄膜。通過X射線衍射法(XRD)、掃描電鏡(SEM)及原子力顯微鏡(AFM)對樣品的結構、形貌特性進行了測試和表征，利用場發(fā)射、熒光光譜儀對樣品的陰極射線發(fā)光特性和光致發(fā)光進行了測試和分析。研究了ZnO薄膜的結晶狀況、成份、點缺陷濃度等因素與其發(fā)光特性之間的關系，找到制備較好薄膜的實驗條件。 實驗表明，在濺射功率為

2、150w、工作壓強為4Pa、沉底溫度為250度及進行退火處理的條件下，生成的薄膜顆粒比較大、比較致密、平整度較好，即容易生成結晶質量比較好的薄膜，而高的結晶質量和一致的C軸取向性觀察到有好的紫外光及藍綠光發(fā)射，薄膜對光的透過率測試表明所生成的氧化鋅薄膜透過率一般在80﹪以上，是比較好的透明薄膜。同時，在上述較好的試驗條件下，分別以N<,2>、NH<,3>作為摻雜劑，對氧化鋅薄膜進行了 p 型摻雜，結果發(fā)現(xiàn)在用NH<,3>為摻雜劑時，有氮