(Ti,Al)N薄膜力學(xué)性能及微觀組織結(jié)構(gòu)的研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩68頁未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、和TiN薄膜相比,(Ti,Al)N薄膜具備了許多優(yōu)良的特性,如:高硬度、抗高溫氧化性能、良好的耐磨性等。因此,(Ti,Al)N薄膜在切削刀具、工模具領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。 本文以(Ti,Al)N薄膜為研究對(duì)象。采用反應(yīng)磁控濺射的方法,利用Ti-Al鑲嵌靶,在氮?dú)?氬氣混合氣氛下,制備具有不同力學(xué)性能和結(jié)構(gòu)成分的(Ti,Al)N薄膜。運(yùn)用納米壓入法、劃痕法和SEM、 AFM、EDS、XRD、XPS等測(cè)試方法測(cè)量(Ti,Al)N薄膜的微觀力

2、學(xué)性能、表面形貌和組織結(jié)構(gòu)。主要研究氮?dú)夥謮?、基體偏壓等工藝參數(shù)對(duì)(Ti,Al)N薄膜力學(xué)性能、表面形貌、組成成分及微觀組織結(jié)構(gòu)的影響規(guī)律,探討(Ti,Al)N薄膜優(yōu)良微觀力學(xué)性能的形成機(jī)理。 本試驗(yàn)制備的(Ti,Al)N薄膜最高硬度可達(dá)48GPa,彈性模量達(dá)到430 Gpa,最佳膜/基界面結(jié)合強(qiáng)度達(dá)到40N。通過EDS、XRD和XPS綜合分析,薄膜主要相組成為Ti3AlN和非晶態(tài)AlN。Al原子固溶在TiN晶格中,引起晶粒尺寸

3、的減小和應(yīng)力狀態(tài)的改變,同時(shí)彌散存在的非晶態(tài)AlN相是(Ti,Al)N薄膜具有優(yōu)良力學(xué)性能的主要原因。 氮?dú)夥謮?、基體偏壓對(duì)(Ti,Al)N薄膜的微觀力學(xué)性能、成分結(jié)構(gòu)等均有較大的影響。隨著氮?dú)夥謮旱脑龃?,薄膜厚度隨之降低,納米硬度逐漸增大,到達(dá)最大值后稍有減小。薄膜擇優(yōu)取向隨氮?dú)夥謮河休^明顯的變化,氮?dú)夥謮涸龃?,?11)取向逐漸減弱,(220)和(311)取向逐漸增強(qiáng),并且晶粒尺寸逐漸細(xì)化。氮?dú)夥謮狠^大時(shí),薄膜內(nèi)(Ti+Al

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

最新文檔

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論