金屬酞菁修飾電極對(duì)分子氧的電催化還原研究.pdf_第1頁(yè)
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1、本論文采用吸附法制備了酞菁鈷(CoPc)、四溴代酞菁鈷(CoPcBr4)、四-α-(2,2,4-三甲基-3-戊氧基)酞菁鈷(CoPc(OC<,8>H<,17>)<,4>)和四溴代酞菁鐵(FePcBr<,4>)修飾的玻碳電極。利用循環(huán)伏安法和線性掃描伏安法研究了修飾電極在酸性和堿性介質(zhì)中對(duì)分子氧和H<,2>O<,2>的電催化還原，比較了不同取代基和中心金屬離子對(duì)金屬酞菁電催化性質(zhì)的影響，考察了O<,2>還原的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。 在酸性介

2、質(zhì)中，F(xiàn)ePcBr<,4>修飾電極很不穩(wěn)定，CoPcBr<,4>具有最高的電催化活性，它可以催化O<,2>到H<,2>O<,2>以及H<,2>O<,2>到H<,2>O的還原，最終實(shí)現(xiàn)O<,2>的兩步2電子還原。在堿性介質(zhì)中，四種金屬酞菁都能通過(guò)4電子途徑催化O<,2>還原為H<,2>O，其中FePcBr<,4>的電催化活性最高。這種催化活性的不同是由取代基和中心金屬離子的不同造成的。O<,2>還原的動(dòng)力學(xué)過(guò)程都是由O<,2>從溶液中擴(kuò)散

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