寬光譜鹽控薄膜生長系統(tǒng)的研制.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、在光學(xué)薄膜器件的制備過程中,薄膜厚度是實(shí)現(xiàn)器件特性的最重要的參數(shù),薄膜制備的成功與否取決于在薄膜生長過程中能否對各層薄膜的光學(xué)厚度進(jìn)行精確的測量和控制。鍍膜工藝經(jīng)過一百多年的發(fā)展,產(chǎn)生了很多膜厚監(jiān)控方法,如光電極值法、波長調(diào)制法、偏振光分析法、石英晶振法、單波長極值監(jiān)控法、寬光譜監(jiān)控法等。隨著高密度線陣列和面陣列探測器的發(fā)展,光譜儀的波長掃描探測時(shí)間越來越短,分辨率越來越高,促使寬光譜光學(xué)監(jiān)控法能被用于薄膜生長的動態(tài)光譜特性的實(shí)時(shí)監(jiān)控,

2、包括測量薄膜光譜的帶寬和峰值等變化規(guī)律,不僅可監(jiān)控常規(guī)1/4波長特征的薄膜器件制備過程,還可監(jiān)控非1/4波長厚度薄膜器件的生長特性,因此寬光譜監(jiān)控法引起了人們高度的重視[1-12]。在本論文工作中,開展了寬光譜監(jiān)控薄膜生長系統(tǒng)的研究和應(yīng)用。
   本文首先回顧了光學(xué)薄膜制備原理和工藝的發(fā)展史,介紹了目前在科研和生產(chǎn)領(lǐng)域常用的監(jiān)控方法,如薄膜淀積和膜厚監(jiān)控等方法,對光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)和監(jiān)控的原理、真空技術(shù),以及各種薄膜生長方法進(jìn)行了比

3、較和介紹。
   其次,論文對寬光譜監(jiān)控的原理、實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)的組成、數(shù)據(jù)采集、信噪比處理、計(jì)算機(jī)自動停判算法的研究和實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的軟件控制等問題作了詳細(xì)討論。在實(shí)驗(yàn)中,采用了本實(shí)驗(yàn)室研制的多光柵高分辨率快速光譜儀作為分光系統(tǒng),確保了在薄膜生長過程中實(shí)時(shí)快速獲取薄膜的光譜數(shù)據(jù),成功地實(shí)現(xiàn)了對窄帶通薄膜濾光片生長的監(jiān)控。利用VC++環(huán)境開發(fā)了相應(yīng)的系統(tǒng)控制軟件,以及采用多線程技術(shù),使得軟件控制界面、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理以及數(shù)據(jù)保存等功能被一體

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