Me-Si-N薄膜的制備與性能表征.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文以磁控濺射和離子束輔助沉積兩種方法制備了Me-Si-N薄膜(Hf-Si-N、Zr-Si-N),借助掃描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)、能譜儀(EDS)、X射線衍射儀(XRD)和X射線光電子能譜(XPS)研究了薄膜的表面形貌、微觀組織和相結(jié)構(gòu);通過納米力學(xué)綜合測試系統(tǒng)、摩擦磨損實驗、電化學(xué)工作站研究了Si元素含量對薄膜的摩擦磨損性能、納米力學(xué)性能及耐腐蝕性能的影響;采用蛋白質(zhì)表面吸附實驗和血小板黏附實驗研究了Me-Si-

2、N薄膜對生物醫(yī)用金屬材料表面生物相容性的影響;并通過接觸角測試和第一性原理計算方法研究了不同Si含量的Me-Si-N薄膜的表面能。表面形貌和微觀結(jié)構(gòu)測試結(jié)果表明:隨著Si元素含量的增加,Me-Si-N薄膜表面粗糙度降低;薄膜主要由MeN和Si3N4兩相組成;摩擦磨損實驗結(jié)果表明:隨著摩擦?xí)r間的增加,薄膜的摩擦系數(shù)不斷上升,且隨著Si含量的增加先減小后增大,但其均低于低于基體試樣的摩擦系數(shù);薄膜具有較好的耐磨性能;模擬體液中耐蝕性能測試結(jié)

3、果表明:隨著Si元素含量的增加,耐蝕性能先上升后降低,其中Si含量為8.32At%時Zr-Si-N薄膜的耐蝕性能最佳,Si含量為6.99At%時Hf-Si-N薄膜的耐蝕性能最佳,開路電位下可產(chǎn)生自鈍化現(xiàn)象,自腐蝕電位升高,能夠?qū)崿F(xiàn)對基體的有效防護(hù);生物相容性實驗表明:Me-Si-N薄膜的生物相容性優(yōu)于基體,其中Si含量為8.32At%時Zr-Si-N薄膜具有良好的生物相容性能;而當(dāng)Si含量為6.99At%時Hf-Si-N薄膜有良好的生物

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