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文檔簡介
1、由于硅是間接帶隙半導體,T=0K時,帶隙寬度Eg=1.17eV,T=300K時,帶隙寬度Eg=1.14eV,其導帶底和價帶頂位于波矢量空間的不同位置,在滿足動量守恒的條件下,只有借助聲子作用才能實現(xiàn)間接帶隙半導體躍遷發(fā)光。但一維硅納米線具有高表面活性和量子限制效應,可獲得較強的發(fā)光,因而硅納米線的研究極為重要。
本論文利用選擇性刻蝕方法,采用濕法化學刻蝕法制備硅納米陣列結(jié)構(gòu),討論了生長時間、氫氟酸濃度、硝酸銀溶液濃度、反應
2、溫度對硅納米線形貌的影響,以及對硅納米線Raman光譜的影響。
通過分析不同條件下制備的硅納米線的SEM圖像,當反應溫度為50℃,5mol/L氫氟酸,0.02mol/LAgNO3溶液,且氫氟酸與硝酸銀的體積比V(HF):V(AgNO3)=1:4,生長1h以后制備的硅納米線形貌最好,形成了典型的納米線陣列結(jié)構(gòu),納米線長度為30微米左右,直徑為15—50nm。樣品的Raman主峰位于519.2cm-1,半高寬為3.1 cm-1
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