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1、摘要用激光誘導(dǎo)擴(kuò)散和激光輔助合金的方法,制成InGaAsInP探側(cè)器,響應(yīng)度達(dá)到0.21AIW.據(jù)我們所知,國(guó)內(nèi)還未見關(guān)于用激光徽細(xì)加工技術(shù)制作1一1.55ELmPIN叁叁魚蘭的報(bào)道。本文介紹了激光微細(xì)加工中眼光區(qū)溫度的不接觸鍘t、激光誘導(dǎo)擴(kuò)散、激光輔助合金,以及用傲光徽細(xì)加工的方法制作光探測(cè)器的基本工藝,并且側(cè)試了光探側(cè)器的一些性能參數(shù)。關(guān)健詞激光徽細(xì)加工半導(dǎo)體化合物InG&AsInPPIN光探側(cè)器AbstractTheInGaAsl
2、1nPdetectorswithresponsivityof0.21AIWwerefabricatedusinglaserinduceddifusionandlaserassistedalloying.Toourknowledgethisisthefirstreportaboutfabricationof1.3一1.55duxdetectorusinglaserassistedmicropsocessinginChina.Remotes
3、ensingofthetemperatureoftheexposedro茸o(hù)ninlaserassistedmicroprocessinglaserinduceddifusion,】~assistedalloyingandfabricationofdetectorsusinglasermicroprocessingtechnologiesdescribedthensomeperformanceparametersofthedetecto
4、rshavebenwordsLaserassistedmicroprocessingSemiconductorcompoun氏InGaAsllnPdetector在后一步制作光器件時(shí)能使集成電路部分處于低溫狀態(tài),不對(duì)集成電路部分產(chǎn)生熱沖擊,就可以有效的解決OEIC中光、電器件的工藝不相容這一難題。激光微細(xì)加工中的激光誘導(dǎo)擴(kuò)散、激光輔助合金工藝,具有“低溫處理”(lowtemperatureping)和“直接寫入”(directwriti
5、ng)等獨(dú)特優(yōu)點(diǎn),使合金、擴(kuò)散工藝中基片的受熱高度定域,除擴(kuò)散、合金區(qū)外,垂片的其他區(qū)域始終處于相對(duì)“低溫”狀態(tài),也就不會(huì)受到熱沖擊。所以,如果在基片上先做成集成電路,再在同一基片上用激光徽細(xì)加工技術(shù)制作光探測(cè)器,則集成電路部分的性能不會(huì)在光器件的制作過(guò)程中受到負(fù)面影響。因此,應(yīng)用本文介紹的光器件橄光徽細(xì)加工制作工藝,很容易同時(shí)兼顧OEIC中集成電路和光器件兩者對(duì)工藝的不同要求,使二者的性能都最優(yōu)化,對(duì)提高OEIC的總體性能水平有重要意
6、義。國(guó)外將激光微細(xì)加工工藝運(yùn)用于硅荃片集成電路制作的報(bào)道很多,美國(guó)的Bell實(shí)驗(yàn)室、林肯實(shí)臉室、日本的NEC等都在這方面開展了廣泛的研究,但考慮到電光、聲光以及光輻射等方面的特性,GaAsInP等化合物半導(dǎo)體才是OEIC更為理想的基底材料。尤其是Inp,眾所周知,1.31.55Em是光纖通信系統(tǒng)中的最低損耗和低色散區(qū)域,而用lap垂材料做成的異質(zhì)結(jié)器件,其波長(zhǎng)(理論上為。.92pm1.68pm)正好班蓋了這一范圍‘。所以,Inp是光纖通
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