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1、碳化硅陶瓷因具有密度低、熱膨脹系數(shù)小、硬度高、彈性模量大、耐高溫、耐腐蝕等特點(diǎn),廣泛用于陶瓷球軸承、閥門(mén)、陀螺、測(cè)量?jī)x器等領(lǐng)域,在一些特殊場(chǎng)合有不可替代的作用。但是碳化硅陶瓷屬于硬脆材料,加工困難,加工成本高,在一定程度上影響了其應(yīng)用。碳化硅陶瓷球90%以上的余量是由研磨階段去除的,是控制加工成本的關(guān)鍵步驟,產(chǎn)品最終圓度、粗糙度的改善也與此工序密切相關(guān)。因此本論文選擇碳化硅陶瓷球?yàn)檠芯繉?duì)象,探討其在研磨階段的材料去除機(jī)理。 通過(guò)
2、對(duì)碳化硅陶瓷球與氮化硅、氧化鋯和氧化鋁陶瓷球的對(duì)比研究,探討了材料的性能、顯微結(jié)構(gòu)和磨加工之間的關(guān)系。得到以下結(jié)論:硬度和斷裂韌性通常是影響材料抗磨耗性的指標(biāo),但并不能簡(jiǎn)單依此判斷抗磨耗性,陶瓷球的研磨加工還受到顯微結(jié)構(gòu)等因素的影響。在相同的研磨條件下,與氮化硅、氧化鋯陶瓷球相比,碳化硅陶瓷球的材料去除率最高,圓度和表面質(zhì)量最不易控制。 在碳化硅陶瓷球的研磨試驗(yàn)中系統(tǒng)分析了壓力、轉(zhuǎn)速、磨液、磨料等加工參數(shù)對(duì)碳化硅陶瓷球加工的影響
3、。研究確定了較為合理的研磨工藝及加工參數(shù):(1)磨液:水基研磨液;(2)壓力:粗磨選用12N/ball左右,細(xì)磨選用9N/ball左右。(3)轉(zhuǎn)速:粗磨取在32rpm左右,細(xì)磨取在20rpm左右。(4)磨料:粗磨采用63μm的碳化硼,細(xì)磨采用101μm的金剛砂。研磨后碳化硅陶瓷球的圓度誤差為0.386μm,表面粗糙度Ra為0.046μm。按照GB308-89標(biāo)準(zhǔn),碳化硅陶瓷球拋光后的圓度達(dá)到G10(0.25μm),表面粗糙度Ra在G3級(jí)
4、(0.008μm)。上述優(yōu)化參數(shù)將為生產(chǎn)中制定碳化硅陶瓷球研磨工藝提供重要技術(shù)依據(jù)。 采用掃描電鏡觀察了研磨后碳化硅陶瓷球的表面形貌,分析了碳化硅陶瓷球在研磨階段的材料去除機(jī)理。研究表明,在碳化硅陶瓷球的研磨階段,摩擦化學(xué)對(duì)材料去除的影響微乎其微,材料去除主要是機(jī)械去除,微裂紋的產(chǎn)生和擴(kuò)展是其機(jī)械去除過(guò)程中的主導(dǎo)作用。材料去除機(jī)理主要是穿晶斷裂引起的塊狀材料崩落。 通過(guò)觀察斷口形貌發(fā)現(xiàn)晶粒斷口分兩部分,一部分晶粒斷口為重
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