利用離體型高分辨率核磁共振氫譜評(píng)價(jià)腦膠質(zhì)瘤細(xì)胞系放療后DNA損傷.pdf

1、研究目的:應(yīng)用離體型高分辨率核磁共振氫譜檢測(cè)腦膠質(zhì)瘤細(xì)胞系(C6、U87及U251)經(jīng)不同劑量X線（0Gy、1Gy、5Gy、10Gy及15Gy）照射后的代謝物變化，并初步探討代謝物變化與DNA損傷之間的相關(guān)關(guān)系。
　　研究方法:選擇臨床實(shí)驗(yàn)常用腦膠質(zhì)瘤細(xì)胞系（C6、U87及U251）為研究對(duì)象，分別分成5個(gè)照射劑量（0Gy、1Gy、5Gy、10Gy及15Gy）進(jìn)行X線照射，0Gy設(shè)為對(duì)照組，1Gy、5Gy、10Gy及15Gy設(shè)為實(shí)

2、驗(yàn)組，照射后細(xì)胞繼續(xù)培養(yǎng)24小時(shí)。將每個(gè)劑量的細(xì)胞隨機(jī)分為5組，第1組利用單細(xì)胞凝膠電泳實(shí)驗(yàn)進(jìn)行DNA損傷檢測(cè)，檢測(cè)指標(biāo)為尾長(zhǎng)（tail length）、彗尾中DNA含量(TDNA)、尾矩(tail moment);第2組利用流式細(xì)胞儀檢測(cè)多個(gè)照射劑量下的細(xì)胞周期分布情況;第3組利用流式細(xì)胞儀檢測(cè)不同照射劑量下的細(xì)胞凋亡率;第4組利用集落形成實(shí)驗(yàn)統(tǒng)計(jì)集落形成率，并利用單擊-多靶模型繪制細(xì)胞存活曲線，從而得出放射敏感性參數(shù)，比較不同細(xì)胞系

3、之間的放射敏感性大小;第5組利用高分辨率核磁共振氫譜檢測(cè)不同劑量X線照射后的代謝物變化。采集到的核磁共振氫譜數(shù)據(jù)利用軟件MestRenova進(jìn)行分析，多組間比較采用單因素方差分析，兩組間比較采用t檢驗(yàn)。
　　研究結(jié)果:1.DNA損傷:與對(duì)照組相比，各實(shí)驗(yàn)組照射后，彗尾逐漸延長(zhǎng)，DNA損傷明顯加重（C6，P＜0.01;U87，P＜0.05;U251，P＜0.01），并隨著照射劑量的增加，DNA損傷具有劑量依賴效應(yīng)。
　　2.細(xì)

4、胞周期分布:與對(duì)照組相比，當(dāng)照射劑量為1Gy時(shí)，三種細(xì)胞系G1期所占百分比顯著增加（C6，P＜0.05;U87，P＜0.01;U251，P＜0.01）;隨著照射劑量繼續(xù)增加為5、10及15Gy時(shí)，G1所占百分比C6呈增加趨勢(shì)（1Gy vs.5Gy，P＜0.05;5Gyvs.10Gy，P＜0.05;10Gy vs.15Gy，P＞0.05），U87及U251呈下降趨勢(shì)(U87:1Gy vs.5Gy,P＜0.05;5Gy vs.10Gy, P

5、＜0.05;10Gy vs.15Gy, P＞0.05.U251:1Gy vs.5Gy,P＜0.01;5Gy vs.10Gy, P＜0.01;10Gy vs.15Gy,P＜0.01)。
　　3.細(xì)胞凋亡率變化:相比于對(duì)照組，各實(shí)驗(yàn)組細(xì)胞凋亡率顯著增加(C6，P＜0.01;U87，P＜0.01;U251，P＜0.01);各相鄰組間比較時(shí)，C6及U87呈緩慢增加趨勢(shì)(C6，P＜0.01;U87，P＜0.05)，U251呈現(xiàn)出先快(0Gy

6、 vs.1Gy, P＜0.01)后慢(1Gy vs.5Gy，P＜0.05;5Gy vs.10Gy, P＜0.01;10Gy vs.15Gy, P＞0.05)的增加趨勢(shì)。
　　4.集落形成實(shí)驗(yàn):與對(duì)照組相比，各實(shí)驗(yàn)組集落形成率明顯降低(C6，P＜0.01;U87，P＜0.01;U251，P＜0.01)。各實(shí)驗(yàn)組組間比較可得:1Gy vs.5Gy，三種細(xì)胞系P值均＜0.01;5Gy vs.10Gy，C6和U251的P值＜0.01，U8

7、7的P值＜0.05;10Gy vs.15Gy，C6的P值＜0.01，U87和U251的P值＞0.05。
　　5.細(xì)胞放射敏感性大小比較:細(xì)胞存活曲線擬合結(jié)果顯示，三種細(xì)胞系(C6、U251及U87)的SF2（照射劑量為2Gy時(shí)的細(xì)胞存活分?jǐn)?shù)）值分別為0.557、0.456及0.148，U87的放射敏感性大于U251，U251的放射敏感性大于C6。
　　6.細(xì)胞內(nèi)代謝物改變:照射劑量由0Gy增加為1Gy、5Gy、10Gy、15

8、Gy的過程中，代謝物比值Lac/Cr和Suc/Cr逐漸減少（C6和U87，P＜0.05; U251，P＜0.01），Cho/Cr逐漸增加（C6和U87，P＜0.05; U251，P＜0.01），與DNA損傷參數(shù)（尾長(zhǎng)、TDNA、尾矩）呈線性相關(guān)關(guān)系(0.783＜R2＜0.996)。
　　結(jié)論:離體型高分辨率核磁共振氫譜檢測(cè)得出，腦膠質(zhì)瘤細(xì)胞系(C6、U87及U251)放療后Lac/Cr、Suc/Cr及Cho/Cr比值變化與腫瘤細(xì)胞