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文檔簡介
1、該文對亞微米、亞波長微結構減反膜的光學特性理論、設計和分析理論以及亞波長微結構實現(xiàn)方法--超微細加工技術展開了一系列研究工作.利用最先進的電子束直寫系統(tǒng)進行亞微米線寬的光刻研究.提出了用反應離了刻蝕和反應離子束刻蝕技術進行微細圖形的刻蝕傳遞,成功制作了400nm周期等間隔的超微減反射光柵.文中針對亞波長超微細結構的一種典型應用,對超微細結構的減反射特性進行了研究和總結.等效介質理論是一種標量電磁場理論,通過適當?shù)慕朴煤唵蔚谋磉_式將周期
2、性結構的表面等價于各向異性或各向同性介質.通過薄膜設計的方法,對中種面形結構、光柵深度、入射波長以及入射角度等參數(shù)對減反射效果的影響進行了全面的分析和研究.BKK矢量分析法對光柵衍射效率進行了分析,并首次提出用BKK方法進行零級衍射效率--即微結構表面透過小和反射率的分析.該文對超微細結構制作技術進行了研究,采用電子束直寫技術進行亞微米結構的光刻,詳細討論了電子束直寫制作工藝和曝發(fā)參量對光刻質量的影響.研究了電子束光刻中的近距離效應,采
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