超光滑光學(xué)表面納米級顆粒兆聲清洗技術(shù)研究.pdf

1、超低損耗反射鏡是影響高精度激光陀螺性能的重要元器件之一，提高其性能的一項關(guān)鍵技術(shù)就是進一步改善光學(xué)基片的表面潔凈度。隨著表面污染微粒的容限提高至納米級，傳統(tǒng)的清洗技術(shù)已難以滿足需求，成為制約基片性能提高的主要技術(shù)瓶頸之一。
　　 本文在兆聲波清洗機理分析的基礎(chǔ)上，通過對工藝參數(shù)進行深入研究，依托全因子DOE試驗結(jié)果及MINITAB分析，探索出一條適宜超光滑表面兆聲波清洗新技術(shù)，并對工藝參數(shù)進行優(yōu)化研究。采用“超聲波+兆聲波”的組

2、合清洗模式，實現(xiàn)了超光滑光學(xué)表面納米級顆粒的有效去除，同時建立了光學(xué)基片清洗的工程化工藝流程及評價體系。結(jié)果如下：⑴基片表面潔凈度受清洗劑及兆聲波輸入功率、工作頻率、清洗時間、清洗距離等因素影響。使用FA/O清洗劑，在頻率為3.0MHz、輸入功率28W、清洗時間1min、清洗距離5mm的工藝參數(shù)下，基片表面潔凈度可達到最佳狀態(tài)；⑵對試驗中基片清洗前后暗場顯微鏡和原子力顯微鏡(AFM)照片進行統(tǒng)計分析，同時提取基片表面雜質(zhì)微粒的圖像特征，