硅基薄膜中金屬顆粒對發(fā)光特性的影響.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、采用雙離子束濺射技術(shù),通過對由Si、SiO<,2>以及Al、Si和SiO<,2>組成的復(fù)合靶的濺射制備出Si-SiO<,2>以及Al-Si-SiO<,2>薄膜.其中鋁、硅在薄膜中的含量可分別通過改變靶面上鋁、硅所占的表面積來調(diào)節(jié).通過對上述薄膜的PL、PLE以及EL的分析,研究了此類薄膜中所存在的缺陷及發(fā)光中心,以及結(jié)構(gòu)對發(fā)光的影響.著重討論了摻鋁對薄膜電致發(fā)光的啟動電壓、發(fā)光強度、發(fā)光效率的影響.用XRD,TEM,XPS等測試手段對薄

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